OLYMPUS BX60M I VISILOG4 W ZASTOSOWANIU DO BADAŃ
Transkrypt
OLYMPUS BX60M I VISILOG4 W ZASTOSOWANIU DO BADAŃ
54/44 Solidification of Metals and Alloys, Year 2000, Volume 2, Book No. 44 Krzepnięcie Metali i Stopów, Rok 2000, Rocznik 2, Nr 44 PAN – Katowice PL ISSN 0208-9386 OLYMPUS BX60M I VISILOG4 W ZASTOSOWANIU DO BADAŃ STEREOLOGICZNYCH J. CYBO1, J. CHMIELA2, J. MASZYBROCKA3, S. STACH4 Katedra Materiałoznawstwa - Zakład Badań Warstwy Wierzchniej Uniwersytetu Śląskiego STRESZCZENIE W pracy podano charakterystykę najistotniejszych składowych software’owej wersji komputerowego analizatora obrazu, bazującej na najnowszej wersji mikroskopu Olympus i systemie analizy VISILOG4, który poddano kompleksowemu oprogramowaniu stereologicznemu. Praca zawiera również szczegółowy protokół pomiarowy mikrostruktury oraz wskazuje na zgodność pomiarów stereologicznych z wartościami parametrów podanymi dla skali A wzorców Nr 1 ÷10 wielkości ziarna PN. 1. OPIS MIKROSTRUKTURY I SKŁADOWE SYSTEMU ANALIZY Aspekt utylitarny działalności Pracowni analizy stereologicznej i fraktalnej mikrostruktury materiałów oraz warstwy wierzchniej jest ukierunkowany na zastosowanie ilościowych narzędzi analizy materiałoznawczej zarówno w doskonaleniu składu chemicznego, technologii konwencjonalnych, jak i mikrostruktury materiałów metalicznych i ceramicznych, kompozytów oraz warstw wierzchnich. Główny nacisk jest położony na kompleksowe zastosowanie komputerowej analizy obrazu w badaniach stereologicznych, zapewniających pełny opis ilościowy parametrów integralnych, rozkładów wielkości obiektów - tak statystycznych, jak i geometrycznych - oraz wskaźników kształtu i jednorodności. Spośród 10 składowych soffware’owej wersji analizatora obrazu na szczególną uwagę zasługują: mikroskop OLYMPUS BX60M oraz system komputerowej analizy obrazu VISILOG4. 1 Dr hab. Profesor Uniwersytetu, e-mail: [email protected] Dr 3 Mgr 4 Mgr 2 410 1.1. Olympus BX60M Mikroskop BX60M należy do jednej z najbardziej zaawansowanych serii mikroskopów. Na podkreślenie zasługuje zastosowany Universal Infinity System układ skorygowany na nieskończoną długość tubusa. Jest on przystosowany zarówno do rozbudowy w dowolnym czasie, jak i do wykorzystania pełnego zakresu technik obserwacji umożliwiających pracę w polu jasnym i ciemnym, w świetle spolaryzowanym oraz kontraście interferencyjnym Nomarskiego. W połączeniu z okularami, obiektywami i kondensorami typu UIS pozwala otrzymać bardzo ostry obraz, jasny i o wysokim kontraście, niezbędny w przypadku komputerowej analizy obrazu. Rozwiązanie to wspomaga dodatkowo przesłona polowa, aparaturowa i punktowa, które zwiększają kontrast, eliminują światło rozproszone oraz centrują i korygują wiązkę zależnie od rodzaju obiektywu i jego powiększenia. Mikroskop wyposażony jest w obiektywy ze szkła fluorytowego 2.5x, 5x, 10x, 20x, 50x i 100x imersyjny. Są to semiplanapochromaty i planapochromaty, które w odniesieniu do podstawowej klasy obiektywów achromatycznych, prawie całkowicie eliminują aberację: chromatyczną, typu „koma”, sferyczną oraz zapewniają wysoki kontrast i wysoką zdolność rozdzielczą ∆R, rys. 1. Każde z powiększeń optycznych może być trzykrotnie zmienione (1.25x, 1.6x, 2x) dzięki zintegrowanej głowicy Rys. 1. Charakterystyka obiektywów (NA - apertura zmieniacza powiększeń. Ostatecznie otrzymuje się 18 różnych powiększeń, numeryczna, Pob - pow. obiektywu) Fig.1. Characteristic features of objectives a maksymalne wynosi 2000x. (NA - numerical aperture, Pob - area of the objective) W mikroskopie zapewniony jest skaning systematyczny. Zakres funkcji multikontrolera sprawia, że sterowanie stolikiem może odbywać się ręcznie (przy pomocy drążka kulowego) lub przy wykorzystaniu programu WINPOS, a także z poziomu systemu analizy obrazu. Specjalna konfiguracja mikroskopu z podwójnym portem foto/video pozwala, nawet w trakcie obserwacji, na jednoczesne przekazanie obrazu do kamery i do automatycznego aparatu fotograficznego bez konieczności jakiegokolwiek przezbrajania sprzętu. Umożliwia to szybkie sporządzenie dokumentacji mikrofotograficznej w postaci: wydruku obrazu wraz ze znacznikiem długości na drukarce laserowej lub termosublimacyjnej, albo klasycznej mikrofotografii. 411 1.2. System komputerowej analizy obrazu VISILOG 4 VISILOG4 jest obiektowo zorientowanym środowiskiem programowym, ukierunkowanym na akwizycję, zarządzenie, transformację, analizę i pomiar obrazów. Rozwiązanie firmy NOESIS pozwala na wykorzystanie środowiska Windows, pracę w sieci i automatyczną rejestrację programów źródłowych dla tworzonych aplikacji. Może współpracować z różnymi rodzajami komputerów PC oraz stacjami roboczymi działającymi w systemie Unix. Dysponuje dodatkowymi modułami zaawansowanych, szybkich przekształceń morfologicznych (Advanced Morphology) oraz procedurami analizy obrazów kolorowych (True Color Processing). VISILOG4 bazuje na bardzo dużej bibliotece procedur przetwarzania obrazu, zawierającej ponad 350 predefiniowanych transformacji, które mogą być modyfikowane przez użytkownika. Środowisko Windows stwarza dostęp do wszystkich funkcji interaktywnych, natomiast interpreter języka C umożliwia korzystanie z dowolnych funkcji w tym języku lub funkcji systemu VISILOG. Pozwala to na automatyczne odtwarzanie kolejnych operacji, modyfikację ich sekwencji i uzupełnianie nowymi funkcjami lub zewnętrznymi procedurami. VISILOG analizuje obrazy o dowolnych rozmiarach, posiadających od 1 do 32 bitów na każdy punkt (od binarnych do pełnokolorowych). Akceptowane są formaty Visilog, Tiff, Gif. 350 procedur przetwarzania obrazu zgrupowane jest w ośmiu zespołach: akwizycja; anamorficzne operacje modyfikowania sposobu wyświetlania; operacje geometryczne, np. translacje, obroty, wycinanie; przekształcenia punktowe niezależne od stopnia szarości otoczenia; filtrowanie obrazu uwzględniające stopień szarości punktów sąsiednich; detekcja krawędzi - bazująca m.in. na operatorach Robertsa, Canny-Deriche, laplasjanach; operacje częstotliwościowe - głównie transformaty Fouriera; przekształcenia morfologiczne - uwzględniające otoczenie badanego punktu, a wynikające z zasad morfologii matematycznej i prowadzące m.in. do erozji, dylatacji, otwarcia, zamknięcia, pocieniania lub pogrubiania krawędzi obiektów obrazu itd.; zaawansowane, szybkie algorytmy morfologiczne - tworzące mapy warstwicowe, szkielety morfologiczne, rekonstrukcję obrazów itp. Pamiętając, iż przeznaczenie systemu analizy związane jest przede wszystkim z określeniem parametrów stereologicznych badanej mikrostruktury, niezbędnych do oceny procesu wytwarzania danego materiału oraz jego właściwości, podstawowym celem stosowania wymienionych przekształceń jest taka transformacja obrazu, która pozwala na właściwą jego segmentację i wydetekowanie obiektów przeznaczonych do analizy. Warunkiem jest uzyskanie przez badane obiekty tego samego stopnia szarości oraz jednoznacznie określonych granic. Dopiero tak przygotowany obraz może być poddany binaryzacji i pomiarom geometrycznym obiektów. VISILOG mierzy około 20 parametrów. Pomiary mogą dotyczyć całości obrazu (analiza globalna) lub każdego obiektu oddzielnie (analiza lokalna). Wyniki są transportowane do pliku w formacie arkusza kalkulacyjnego Excel i mogą podlegać dowolnej analizie statystycznej oraz transformacji do postaci parametrów stereologicznych z wykorzystaniem odpowiednich praw i zasad stereologii. 412 d śr st [µm] N A st [1/mm 2 ] Oprogramowanie stereologiczne systemu komputerowej analizy obrazu jest wyłączną domeną działania użytkownika i pozostaje funkcją jego potrzeb. Oprogramowanie powstałe w Zakładzie zapewnia kompleksową ocenę stereologiczną mikrostruktury. Charakterystykę tę stanowią parametry integralne oraz rozkłady dowolnych parametrów w funkcji np. wielkości lub kształtu obiektów. Rozkłady są wynikiem analizy płaskich przekrojów ziarn lub cząstek oraz ich transformacji zgodnie z postulatem Bockstiegel’a - do równoważnego układu kul. Wyznaczane są zarówno rozkłady statystyczne jak i geometryczne, obrazujące udział objętościowy ziarn w różnych klasach wielkości. Te ostatnie są uznawane za najpełniejszą charakterystykę wielkości ziarna. Są one preferowane przede wszystkim, gdyż wielkość ziarna stanowi naturalne i najstarsze kryterium strukturalne oceny jakości materiałów polikrystalicznych. Dodatkowo charakterystyki te są uzupełniane - zgodnie z wymogami współczesnej stereologii - o pełną gamę wskaźników kształtu oraz miary niejednorodności kształtu, wielkości i rozmieszczenia obiektów. Dane na temat badanego materiału rzeczywistego mogą ponadto podlegać konfrontacji z parametrami określonymi dla struktur modelowych - o idealnej jednorodności przestrzennej lub dla modeli materiałów rzeczywistych. Tak kompleksowa charakterystyka budowy badanego materiału stanowi podstawowy warunek aplikacji ustaleń stereologii we wszelkich zagadnieniach inżynierii materiałowej oraz zastosowań przemysłowych. Przykładowy wydruk protokołu pomiarowego przedstawiono w tabeli 1. Spis oznaczeń stosowanych parametrów stereologicznych zestawiono w tabeli 2. Jednocześnie wykazano zgodność obliczanych parametrów z wartościami rzeczywistymi, rys. 2. 250 8000 B1 = 1,159; α1 = 49,20° S(B1) = 0,021; S(α1) = 1,176° 6000 B1 = 1,031; α1 = 45,88° 200 S(B1) = 0,022; S(α1) = 1,252° F = 3188,2 R = 0,9987 F = 2226,8 R = 0,9982 150 4000 100 2000 50 0 0 0 Rys.2. Fig.2. 2000 4000 6000 2 8000 N A PN [1/mm ] 0 40 80 120 160 200 dśr PN 240 [µm] Korelacja między NA, dśr wg PN-84 i wartościami parametrów z badań Correlation between NA, dav according to standard PN-84 and values of experimental data 413 Tabela1. Przykładowy protokół pomiarowy mikrostruktury materiałów Table1. Typical measuring protocal used for material microstructure investigation University of Silesia – Faculty of Engineering Uniwersytet Śląski – Wydział Techniki KATEDRA MATERIAŁOZNAWSTWA ZAKŁAD BADAŃ WARSTWY WIERZCHNIEJ ul. Śnieżna 2, 41-200 Sosnowiec tel. (0-32) 291-83-81 (do 9) wew.572, fax. (0-32) 291-82-43 e-mail: [email protected] PRACOWNIA ANALIZY STEREOLOGICZNEJ I FRAKTALNEJ MIKROSTRUKTURY MATERIAŁÓW ORAZ WARSTWY WIERZCHNIE 1. 2. 3. 4. 5. 6. 7. 8. 9. 10. 11. 12. J Protokół pomiarowy mikrostruktury materiałów Data analizy: 2000-04-10 Numer próbki i rodzaj badanej struktury: B12, żelazo Armco Operacje wykonane na obrazie szarym: normalize Operacje wykonane na obrazie binarnym: not, holefill, dilate, borderthin, not Powiększenie: (10 okular × 20 obiektyw × 1.25 zm) p=250 × Kalibracja (wymiar punktu obrazu): c=0,214113 µm Wymiar ramki pomiarowej (l×k ): 512 × 512 px Powierzchnia jednego pola pomiarowego: a=12017,88 µm2 Liczba pól pomiarowych: n=32 Całkowita powierzchnia mierzona na zgładzie (a×n): A=384572,3 µm2 Liczba badanych obiektów na wszystkich polach: N=1873 Statystyka mierzonych parametrów X badanych obiektów: σ (Xśr) γ (Xśr) ΣX X Xmin Xmax Xśr Nj Naj Aj Aaj Pj (0) Pj (90) Pj (0,90) Ai Li Yi Zi Pi (0) Pi (90) Pi (0,90) d1 (Yi, Zi) d2 (Ai) d3 (Li) d (d1,2,3) 1/d αi βi δi ξi ζi [mm-2] [µm2] [%obj] [µm2] [µm] [µm] [µm] [µm] [µm] [µm] [µm] [µm-1] 47,000 3910,838 10077,884 83,857 3933,000 4220,000 4137,000 14,215 16,504 2,784 2,998 16,000 13,000 24,500 5,139 4,254 5,253 5,101 0,021 1,325 0,993 0,203 0,347 0,197 69,000 5741,443 12343,388 102,708 5321,000 5454,000 5387,500 1075,684 174,526 59,530 56,103 271,000 279,000 259,000 50,965 37,008 55,553 47,506 0,196 2,426 1,273 4,501 0,958 0,988 58,531 4870,346 11025,697 91,744 4513,188 4751,500 4632,344 188,373 53,398 16,864 15,916 77,107 81,179 79,143 16,390 14,195 16,997 15,861 0,078 1,658 1,065 1,003 0,719 0,625 0,9703 80,7388 97,4678 0,8110 51,6062 52,4000 47,7910 3,7216 0,5744 0,1859 0,1737 0,8588 0,9127 0,8471 0,1682 0,1431 0,1828 0,1639 0,0009 0,0032 0,0009 0,0084 0,0024 0,0030 0,01658 0,01658 0,00884 0,00884 0,01143 0,01103 0,01032 0,01976 0,01076 0,01103 0,01091 0,01114 0,01124 0,01070 0,01026 0,01008 0,01076 0,01033 0,01143 0,00193 0,00081 0,00836 0,00339 0,00479 1873,0 155851,1 352822,3 2935,8 144422,0 152048,0 148235,0 352822,3 100014,2 31586,0 29811,0 144422,0 152048,0 148235,0 30698,5 26587,2 31835,5 29707,1 146,3 3105,2 1995,6 1878,5 1347,5 1171,4 ξ 0,1 0 0,925 ÷ 1,000 3,8 20 0,850 ÷ 0,925 25,3 29,4 30 0,775 ÷ 0,850 25 20,2 35 0,700 ÷ 0,775 15 11,3 200 1 00 50 2 35,9 17 6,1 131 ,4 98,0 6 7 3,18 54, 61 D [µ m ] 316 ,2 0,1 1,2 6, 2 15 10 0,635 ÷ 0,700 5,4 18, 1 25 20 0,550 ÷ 0,625 5 29,5 100 50 20 100,10 74,15 54,93 40,69 30,14 22,32 16,54 12, 25 9,07 0, 30 5,12 3,81 1,41 9,94 23,69 22,69 32,72 35 0,475 ÷ 0, 550 10 40,7 5 30 30 2 6,8 10 0,31 25 30 3,3 13 ,6 6,72 4,98 3,69 2,73 V V (d ) [% obj .] 1206,54 988, 11 943,91 30 35 0,400 ÷ 0,475 3,8 5 2 59, 81 2,60 20 10 3 0,41 0 ,6 20 15 22 ,70 16, 94 1 2,64 9, 43 5 10 20 0 1,3 0 5 7,0 4 V v(D ) [% o bj.] 100 100, 10 74 ,15 54,9 3 40 ,69 644,87 426,45 15 0,325 ÷ 0,400 235, 94 50 5 0,250 ÷ 0,325 D [µ m ] 1 76,0 7 11, 3 0 10 5 98, 06 13 1,40 0 ,4 2, 9 10 0 0,172 ÷ 0,250 15 V v( ξ ) [% ob j.] 100 7 3,18 54 ,61 40, 75 30,1 4 2 2,32 16, 54 15 5 0,100 ÷ 0, 175 6,2 27,8 50 20 d [µ m ] 0,000 ÷ 0,100 0,1 0 0,925 ÷ 1,000 20 0,850 ÷ 0,925 30 29,5 2 4,7 30 ,1 1 2,25 0 0,775 ÷ 0,850 25 19,2 35 0,700 ÷ 0,775 30,4 1 15 20 0,635 ÷ 0,700 10 9,6 2 2,70 35 30 0,550 ÷ 0, 625 20 35 4,5 10 449,85 14 00 1400 0,475 ÷ 0,550 20 25 20, 4 30 25 16, 94 9,0 7 148,22 1200 10 00 2,1 7,7 10 15 12,6 4 6 ,72 4,9 8 12 00 0,400 ÷ 0,475 5 1,0 1 ,6 5 9 ,43 3 ,69 -2 [m m ] 1000 8 00 0,325 ÷ 0,400 10 5 2,7 3 6 00 800 0,250 ÷ 0,325 10 0 0,2 2 2 00 400 7, 04 5,2 5 3,92 N A (d) 4 00 600 0,172 ÷ 0, 250 5 2 5 0,100 ÷ 0,175 N v(D )/N v [ % ] 200 0,000 ÷ 0,100 N (ξ )/N [% ] 414 cd. Tab.1. 13. Rozkład wielkości średnic przekrojów badanych obiektów: 20 25 0 d [µ m ] 14. Przestrzenny rozkład wielkości równoważnego układu kul: [ Param. rozkł. log-normal.: σD=0,0101737, σlnD=0,382752, l , ln D =-3,7379062 ] 35 25 0 15. Częstość i udział objętościowy obiektów o wskaźniku kształtu ξ: ξ 415 cd. Tab.1. 15. Parametry stereologiczne (α=1, PL=82,53 [1/mm2], σPL=2,02 ): NA= LA = KL= d= 4,87E+03 129,64 236,05 15,86 [1/mm3] [mm/mm2] [1/mm] [µm] Nv = 1,90E+05 SV = 165,06 Kv = 3,06E+04 D = 25,61 [1/mm3] [mm2/mm3] [1/mm3] [µm] 16. Wskaźniki kształtu badanych obiektów: αśr=1,658 δśr=1,003 βśr=1,065 ζ śr=0,719 ξ śr=0,625 17. Miary niejednorodności kształtu obiektów: ν (ζ) =0,2071 ν (ξ) =0,1466 ν (δ) =0,3618 ν (β) =0,0350 18. Miary niejednorodności wielkości obiektów: ν (PL) =0,1384 ν (d) =0,4472 ν (Α) =0,8550 ∆d =2,9952 19. Niejednorodność rozmieszczenia cząstek: νm =0,0938 20. Obraz binarny badanej struktury: 21. Wskaźniki kształtu i miary niejednorodności dla modelu struktury o idealnej jednorodności przestrzennej (14K) oraz modelu Williamsa (MW) struktury rzeczywistej: 14K MW 14K MW α śr 1,539 1,522 ν (α) 0,0436 0,1092 ν (β) 0,0174 0,0294 β śr 1,027 1,034 ν (δ) 0,1220 0,1459 δ śr 1,014 0,961 ν (ξ) 0,0796 0,1335 ν (ζ) 0,1135 0,2142 ξ śr 0,853 0,853 ν (PL) 0,0256 0,0566 ν (δ) 0,2663 0,4462 ζ śr 0,786 0,808 ν (Α) 0,4414 0,9096 ∆d 1,3498 1,8890 416 Tabela2. Spis oznaczeń Table2. Specification of denotations Parametry stereologiczne - średnia średnica cząstek w objętości Dśr - średnice przekrojów (= Σ(d*N(d))/N) stopu (= NA/NV) - objętość względna badanej fazy N, A - liczba wszystkich badanych obiektów (= ΣAi /A *100%) N na badanej powierzchni A zgładu - liczba obiektów na powierzchni jedNA i,j - indeks: kolejnych obiektów, kolejnych nostkowej (= N/A) pól pomiarowych o powierzchni „a” - względna długość granic badanych LA Nj, Aj - liczba obiektów oraz suma ich poobiektów (= 0,5πPL) wierzchni na „j” polu - średnia krzywizna granic obiektów KL Naj, Aaj - liczba obiektów oraz ich udział na (= 2πNA/LA) „j” polu o powierzchni „a” λ - średnia odległość cząstek izolowanych - licza punktów przecięć badanych PL w osnowie (= π(1-VV)/LA) obiektów na jednostkowej długości - powierzchnia względna granic SV siecznej (=αΣPi/lkcn10-3) ziarn (= 4LA/π) ,P liczba interceptów (punktów wejP i j - liczba obiektów w jednostce objętości NV ścia siecznych w jeden obiekt oraz we 2 3 stopu (= 6π VV (NA/SV) ) wszystkie obiekty na polu pomiarowym) - całk. średnia krzywizna względna KV powierzchni granic badanych obiektów (= 2πNA) Wskaźniki kształtu badanych obiektów Miary niejednorodności kształtu obiektów ν(ξ) - wsp. zmienności kształtu (= σ(ξ)/ξśr) αśr - równoosiowości ziarn (= Dm/d2) - rozwinięcia linii granic (= Li/πdi) βśr ν(ζ) - wsp. zmienności kształtu (zmodyfikowa- wydłużenia ziarn (= Zi/Yi) δśr ny) (=σ(ζ)/ζśr) - kształtu (= 4πAi/Li2) ξśr ν(δ) - wsp. zmienności wydłużenia ziarn - kształtu zmodyfikowany(= 16Ai2/πLidi3) ζśr (= σ(δ)/δśr) ν(β) - wsp. zmienn. rozwinięcia linii granic (=σ(β)/βśr) Miary niejednorodności wielkości obiektów ν(PL ) - współczynnik zmienności liczby przecięć siecznych z granicami (= σ(PL)/PL) ν(d) - współczynnik zmienności średnic przekrojów (= σ(d)/dśr) ν(Ai) - współczynnik zmienności powierzchni przekroju ziarn (= σ(Ai)/Aśr) ∆d - współczynnik niejednorodności średnic przekrojów (= dmax/dśr) Miary niejednorodności rozmieszczenia obiektów νm - współczynnik zmienności parametru NA (= σ(Naj)/NA) d, d1, 2, 3 VV=AA OLYMPUS BX60M AND VISILOG4 IN APPLICATION TO STEREOLOGICAL INVESTIGATION SUMMARY The characteristic of the most important parts of the software version of the computer-aided image analyzer based on the newest version of the Olympus microscope and the VISILOG4-type analysis system is given. The paper contains also the detailed protocol of investigations of the microstructure as well as points out an agreement between stereological measurements and values of parameters given for scale A of standards No 1-10 of PN grain dimensions. Reviewed by prof. Stanisław Jura