Czyszczenie materiału Siperm HP
Transkrypt
Czyszczenie materiału Siperm HP
Czyszczenie materiału Siperm HP Czyszczenie mechaniczne W przypadku, gdy wszystkie zanieczyszczenia znajdują się na powierzchni materiału, nie wnikając w jego strukturę porowatą, czyszczenie mechaniczne okazuje się zwykle wystarczające. Najprostszym sposobem jest płukanie wsteczne; ten rodzaj czyszczenia gazem lub cieczą umożliwia prowadzenie czyszczenia w miejscu, bez konieczności demontażu elementów porowatych. Do procesu płukania wstecznego można użyć medium obcego lub medium przechodzącego przez materiał Siperm. Zaleca się prowadzenie płukania wstecznego gazem w przypadku pracy komponentu z medium gazowym oraz cieczą, jeżeli spiek pracuje jako filtr cieczy. Jeżeli zabrudzenie jest duże, należy zwiększyć częstotliwość czyszczenia. Również możliwe jest prowadzenie przedmuchu wstecznego gorącą parą, jeżeli celem czyszczenia jest także odtłuszczenie materiału porowatego. Czyszczenie w kontrprzepływie może być dodatkowo uzupełnione delikatnym szczotkowaniem (miękka szczotka nylonowa) zanieczyszczonej powierzchni porowatej. Zaleca się używanie szczotkowania w trakcie przepływu wstecznego, co uniemożliwi wnikanie zanieczyszczeń w głąb porów. Dla małych, łatwo wymiennych części filtracyjnych użycie myjek ultradźwiękowych jest także możliwe. Czyszczenie chemiczne Czyszczenie na zasadzie płukania wstecznego jest niewystarczające gdy zanieczyszczenia wniknęły w głąb filtra. W takim przypadku zaleca się chemiczny rozkład zanieczyszczeń i ich późniejsze wypłukanie. Wybrany roztwór chemiczny powinien być neutralny dla spieku. Należy pamiętać, że skuteczność czyszczenia chemicznego zależy od wybranego roztworu i charakteru chemicznego zanieczyszczeń. Stąd też rekomendacje roztworów czyszczących mogą być tylko ogólnikowe. Dla materiału Siperm HP można następujących roztworów chemicznych: użyć rozpuszczalniki takie jak benzyna (RT), aceton, metanol, etanol, kwas octowy 10%, kwas fluorowodorowy 40%, kwas solny (dowolne stężenie), kwas azotowy 25%, roztwory wodorotlenku sodu. Czas i temperaturę czyszczenia należy dobierać względem stopnia zanieczyszczenia. Jednakże należy pamiętać, że spiek porowaty w porównaniu z materiałem litym charakteryzuje się zdecydowanie większą powierzchnią kontaktową i tym samym jest bardziej podatny na agresywne chemicznie media. Stąd też czas i temperatura czyszczenia powinny być nie dłuższe niż jest to faktycznie konieczne. W zależności od aplikacji może zaistnieć konieczność kompletnego wysuszenia elementu porowatego. W przypadku czyszczenia chemicznego, suszenie spieku jest obowiązkowe przed ponownym użyciem. Dla aplikacji o wysokim rygorze chemicznym, ze względów bezpieczeństwa, stosowanie roztworów czyszczących może być niedozwolone. W przypadku materiału Siperm HP, czyszczenie chemiczne surfaktantami (ang. surface active agents – substancje powierzchniowo czynne) powoduje utratę jego właściwości hydrofobowych. Co więcej, stosowanie surfaktantów zmniejsza wytrzymałość materiału na pęknięcia. Tridelta Siperm GmbH • Ostkirchstrasse 177 • D-44287 Dortmund Telefon (0231) 4501-221 • Telefax (0231) 4501-313 • Email [email protected] • http://www.siperm.com Zarząd: Dr M. Fricke, Dr H.-H. Matthias • Siedziba firmy: Dortmund • Zarejestrowana: Dortmund HRB 12627 Dane bankowe: Commerzbank AG, Dortmund • Nr konta: 01 008 225 00, (BLZ 440 800 50)