Wytwarzanie tranzystorów MOS

Wytwarzanie tranzystora NMOS
Katedra Mikroelektroniki i Technik Informatycznych PŁ
Utlenianie powierzchni
~1µm
p
Katedra Mikroelektroniki i Technik Informatycznych PŁ
Nałożenie fotorezystu
p
Katedra Mikroelektroniki i Technik Informatycznych PŁ
Maska 1
p
Katedra Mikroelektroniki i Technik Informatycznych PŁ
Wywołanie
p
Katedra Mikroelektroniki i Technik Informatycznych PŁ
Wytrawienie tlenku
p
Katedra Mikroelektroniki i Technik Informatycznych PŁ
Usunięcie fotorezystu
p
Katedra Mikroelektroniki i Technik Informatycznych PŁ
Nałożenie cienkiego tlenku
~10nm
p
Katedra Mikroelektroniki i Technik Informatycznych PŁ
Nałożenie polikrzemu
p
Katedra Mikroelektroniki i Technik Informatycznych PŁ
Nałożenie fotorezystu
p
Katedra Mikroelektroniki i Technik Informatycznych PŁ
Maska 2
p
Katedra Mikroelektroniki i Technik Informatycznych PŁ
Wywołanie
p
Katedra Mikroelektroniki i Technik Informatycznych PŁ
Wytrawienie polikrzemu
p
Katedra Mikroelektroniki i Technik Informatycznych PŁ
Usunięcie fotorezystu
p
Katedra Mikroelektroniki i Technik Informatycznych PŁ
Dyfuzja drenu i źródła
p
Katedra Mikroelektroniki i Technik Informatycznych PŁ
Nałożenie warstwy izolacyjnej
p
Katedra Mikroelektroniki i Technik Informatycznych PŁ
Nałożenie fotorezystu
p
Katedra Mikroelektroniki i Technik Informatycznych PŁ
Maska 3
p
Katedra Mikroelektroniki i Technik Informatycznych PŁ
Wywołanie
p
Katedra Mikroelektroniki i Technik Informatycznych PŁ
Trawienie tlenku
p
Katedra Mikroelektroniki i Technik Informatycznych PŁ
Usunięcie fotorezystu
p
Katedra Mikroelektroniki i Technik Informatycznych PŁ
Pokrycie warstwą metalu
p
Katedra Mikroelektroniki i Technik Informatycznych PŁ
Pokrycie warstwą fotorezystu
p
Katedra Mikroelektroniki i Technik Informatycznych PŁ
Maska 4
p
Katedra Mikroelektroniki i Technik Informatycznych PŁ
Wywołanie fotorezystu
p
Katedra Mikroelektroniki i Technik Informatycznych PŁ
Wytrawienie metalizacji
p
Katedra Mikroelektroniki i Technik Informatycznych PŁ
Usunięcie fotorezystu
p
Katedra Mikroelektroniki i Technik Informatycznych PŁ
Warstwa pasywacyjna
p
Katedra Mikroelektroniki i Technik Informatycznych PŁ
Pokrycie warstwą fotorezystu
p
Katedra Mikroelektroniki i Technik Informatycznych PŁ
Maska 5
p
Katedra Mikroelektroniki i Technik Informatycznych PŁ
Wywołanie fotorezystu
p
Katedra Mikroelektroniki i Technik Informatycznych PŁ
Wytrawienie tlenku
p
Katedra Mikroelektroniki i Technik Informatycznych PŁ
Usunięcie fotorezystu
p
Katedra Mikroelektroniki i Technik Informatycznych PŁ
Topografia tranzystorów NMOS i PMOS
Dyfuzja typu n+
Podłoże typu p
NMOS
Studnia typu n
PMOS
Dyfuzja typu p+
Ścieżka polikrzemowa
Katedra Mikroelektroniki i Technik Informatycznych PŁ
Proces ze studnią typu n
Katedra Mikroelektroniki i Technik Informatycznych PŁ
Utlenianie powierzchni
~1µm
p
Katedra Mikroelektroniki i Technik Informatycznych PŁ
Pokrycie warstwą fotorezystu
p
Katedra Mikroelektroniki i Technik Informatycznych PŁ
Maskowanie i naświetlenie
p
Katedra Mikroelektroniki i Technik Informatycznych PŁ
Wywołanie fotorezystu
p
Katedra Mikroelektroniki i Technik Informatycznych PŁ
Wytrawienie tlenku
p
Katedra Mikroelektroniki i Technik Informatycznych PŁ
Implantacja jonów
p
Katedra Mikroelektroniki i Technik Informatycznych PŁ
Wygrzewanie
n
p
Katedra Mikroelektroniki i Technik Informatycznych PŁ
Wytworzenie tlenku bramkowego
~2nm
n
p
Katedra Mikroelektroniki i Technik Informatycznych PŁ
Osadzenie, maskowanie
i wytrawienie polikrzemu
n
p
Katedra Mikroelektroniki i Technik Informatycznych PŁ
Wytworzenie tranzystorów NMOS
n
p
Katedra Mikroelektroniki i Technik Informatycznych PŁ
Wytworzenie tranzystorów PMOS
n
p
Katedra Mikroelektroniki i Technik Informatycznych PŁ
Pierwsza warstwa izolacyjna
n
p
Katedra Mikroelektroniki i Technik Informatycznych PŁ
Wytrawienie otworów pod
kontakty
n
p
Katedra Mikroelektroniki i Technik Informatycznych PŁ
Kontakty i metalizacja I
n
p
Katedra Mikroelektroniki i Technik Informatycznych PŁ
Druga warstwa izolacyjna
n
p
Katedra Mikroelektroniki i Technik Informatycznych PŁ
Otwory pod przelotki (VIAs)
n
p
Katedra Mikroelektroniki i Technik Informatycznych PŁ
Przelotki i metalizacja II
n
p
Katedra Mikroelektroniki i Technik Informatycznych PŁ