Logo IFPAN po polsku - Instytut Fizyki PAN

INSTYTUT FIZYKI POLSKIEJ AKADEMII NAUK
PL - 02-668 WARSZAWA, AL. LOTNIKÓW 32/46
Tel. (48-22) 843 66 01 Fax. (48-22) 843 09 26
REGON: P-000326061, NIP: 525-000-92-75
DZPIE/017/2009
Specyfikacja istotnych warunków
zamówienia publicznego
posiadanego
skaningowego
mikroskopu
Przedmiot postępowania: Doposażenie
elektronowego z emisją polową (Neon 40 CrossBeam workstations) wraz z systemem do ultra-wysoko-rozdzielczej
litografii elektronowej.
38.51.10.00-0
Kod CPV:
Postępowanie jest prowadzone w trybie przetargu nieograniczonego
Tryb udzielenia
zgodnie z Prawem Zamówień Publicznych z dn. 29 stycznia 2004 r.
zamówienia:
Instytut Fizyki Polskiej Akademii Nauk
Inwestor/Kupujący:
02-668 Warszawa, Al. Lotników 32/46.
NIP: 525-000-92-75; Regon: P-000326061
Zakup jest współfinansowany ze środków POIG 01.01.02-00-008/08-00 oraz POIG.02.02.0000-003/08.
§1. Opis przedmiotu zamówienia:
Przedmiotem zamówienia jest doposażenie (w ramach dwóch zadań) posiadanego
skaningowego mikroskopu elektronowego z emisją polową (Neon 40 CrossBeam) wraz z
systemem do ultra-wysoko-rozdzielczej litografii elektronowej z uwzględnieniem instalacji,
montażu, uruchomienia aparatury oraz przeszkolenia min 4 pracowników w zakresie ich
obsługi i konserwacji. Doposażenie w ramach zadania 1 obejmuje: mikromanipulatory,
precyzyjny stolik i system wstrzykiwania gazów GIS z trzema dyszami, natomiast w ramach
zadania 2 obejmuje: działo jonowe, nanomanipulatory, komorę załadowczą, stolik
piezoelektryczny oraz system wstrzykiwania gazów z dwoma dyszami. Doposażenie musi być
zakupione jednocześnie z niezbędnymi modyfikacjami i modernizacjami istniejącego systemu
Neon 40 wymaganymi dla prawidłowej instalacji doposażenia oraz osiągnięcia jego pełnej
funkcjonalności. Muszą być także dostarczone płyty CD z kompletnym oprogramowaniem i
sterownikami oraz wszystkimi dostępnymi licencjami. Działo jonowe musi być wyposażone
w elektrostatyczny system odchylania wiązki (beam blanker) wraz z układem sterującym,
który pozwoli na użytkowanie go wraz z istniejącym systemem litografii elektronowej.
Wyniku doposażenia mikroskopu o systemy wstrzykiwania gazów GIS (w ramach zadania 1 i
2) otrzymamy jeden pięcio-kanałowy system wstrzykiwania gazów (Multi Gas Injection
System GIS with integrated Charge Compensation System).
Skaningowy mikroskop elektronowy z emisją polową (Neon 40 CrossBeam - workstations)
wraz z systemem do ultra-wysoko-rozdzielczej litografii elektronowej do 26.01.2011 posiada
gwarancję na cały system, tak wiec doposażenie i modernizacja posiadanego mikroskopu nie
może naruszać warunków gwarancji określonych przez firmę Carl Zeiss.
Doposażony skaningowy mikroskop elektronowy z emisją polową (FE-SEM) wraz z
systemem do ultra-wysoko-rozdzielczej litografii elektronowej przeznaczony jest do:
- badania morfologii (obrazowania) różnego rodzaju obiektów o rozmiarach nanometrycznych
wykorzystując wiązkę elektronową i jonową,
- tworzenie struktur, wzorów litograficznych oraz kontaktów w nano i mikro-skali przy
użyciu wiązki elektronowej i jonowej,
- osadzania i trawienia materiałów wiązką elektronową i jonową,
- pomiarów elektrycznych nano-elementów, mikro-manipulacji oraz nano-manipulacji
nanostrukturami,
- badania próbek o wysokich opornościach (np. ZnO, GaN) przy użyciu systemu do lokalnej
kompensacji ładunku.
Aparatura musi odpowiadać wszystkim wymogom technicznym i jakościowym określonym
przez Zamawiającego w specyfikacji technicznej. Do aparatury winna być załączona
dokumentacja techniczna oraz instrukcja obsługi w jez. polskim lub angielskim.
Charakterystyka techniczna doposażenia zawarta jest w załączniku nr 1.
Wymaga się aby materiały eksploatacyjne były zgodne z obowiązującymi w Polsce normami.
Warunki pełnej gwarancji: 12 miesiące od daty protokołu odbioru.
Czas przystąpienia do naprawy gwarancyjnej: w ciągu 5 dób od daty pisemnego/fax-owego
zgłoszenia.
Czas przywrócenia pełnej funkcjonalności: w ciągu 14 dób od daty pisemnego/fax-owego
zgłoszenia.
Dostępność części zamiennych: min. 10 lat od daty protokołu odbioru. Pod koniec okresu
gwarancyjnego musi być wykonany bezpłatny przegląd zakupionych urządzeń obejmujący
wykonanie niezbędnych regulacji oraz napraw.
Wykonawca zamontuje i uruchomi aparaturę oraz przeszkoli minimum czterech pracowników
Zamawiającego (w laboratorium Zamawiającego) w zakresie obsługi całego systemu w
terminie do miesiąca od daty uruchomienia aparatury. Zostanie to potwierdzone obustronnie
podpisanym protokołem odbioru aparatury. Dodatkowo Wykonawca zapewni szkolenie
aplikacyjne w laboratorium Zamawiającego w uzgodnionym terminie (ok. trzy miesiące od
daty protokołu odbioru). Koszty związane z przeszkoleniem pracowników w zakresie obsługi
całego systemu w tym szkolenie aplikacyjne wliczone są w cenę całkowitą.
Wykonawca zapewni bezpłatną aktualizacją oprogramowania wymienionych w załączniku 1
wszystkich urządzeń przez minimum 1 rok daty instalacji oraz bezpłatną likwidację
zauważonych błędów (wad) w dostarczonym oprogramowaniu (do obsługi całego systemu)
przez cały okres jego użytkowania.
Po doposażeniu systemu Neon 40 komora mikroskopu musi zapewniać odpowiednią
stabilność mechaniczną i jednoczesną bezkolizyjną pracę wszystkich detektorów, systemu
FIB, systemu GIS, nanomanipulatorów, stolika piezoelektrycznego oraz innych urządzeń
obecnie zakupywanych oraz takich o których zgodnie ze specyfikacja system Neon 40 może
być rozszerzony.
Zakupione oprzyrządowanie musi zawierać wszystkie potrzebne przewody zasilające,
przyłączeniowe oraz kable pomiarowe o długościach wystarczających do podłączenia do
obecnego mikroskopu.
Urządzenia muszą być przystosowane i dopuszczone do pracy na terytorium RP, tzn. posiadać
wszelkie wymagane certyfikaty (CE) oraz muszą być dostarczone w stanie gotowym do pracy
bez konieczności kupowania dodatkowych przystawek, licencji, kabli oraz materiałów
niezbędnych do jego uruchomienia poza materiałami eksploatacyjnymi jakimi są prekursory
do systemu GIS.
§2. Termin wykonania zamówienia:
Wymaga się aby, ostateczne uruchomienie całego systemu w laboratorium Zamawiającego
nastąpiło nie później niż 30 października 2009 roku.
§3. Opis warunków udziału w postępowaniu oraz opis sposobu dokonania
oceny tych warunków:
O udzielenie zamówienia mogą ubiegać się wykonawcy, którzy:
1) posiadają uprawnienia do wykonywania określonej działalności lub czynności, jeżeli
ustawy nakładają obowiązek posiadania takich uprawnień;
2) posiadają niezbędną wiedzę i doświadczenie oraz dysponują potencjałem technicznym
i osobami zdolnymi do wykonania zamówienia lub przedstawią pisemne zobowiązanie
innych podmiotów do udostępnienia potencjału technicznego i osób zdolnych do
wykonania zamówienia;
3) znajdują się w sytuacji ekonomicznej i finansowej zapewniającej wykonanie
zamówienia;
4) nie podlegają wykluczeniu z postępowania o udzielenie zamówienia.
Zamawiający zweryfikuje ofertę pod względem obecności oświadczenia o spełnianiu
warunków udziału w postępowaniu.
§4. Wykaz oświadczeń i dokumentów, jakie maja dostarczyć wykonawcy
w celu potwierdzenia spełniania tych warunków:
Wykonawcy z siedzibą na terytorium Rzeczypospolitej Polskiej
1
2
3
4
5
Oświadczenie o spełnianiu warunków udziału w postępowaniu (Art. 22 ust 1 i Art. 24
ust. 1 Ustawy PZP).
Aktualny odpis z właściwego rejestru albo aktualne zaświadczenie o wpisie do ewidencji
działalności gospodarczej, jeżeli odrębne przepisy wymagają wpisu do rejestru lub
zgłoszenia do ewidencji działalności gospodarczej, wystawiony nie wcześniej niż 6
miesięcy przed upływem terminu składania ofert.
Aktualne zaświadczenie właściwego naczelnika urzędu skarbowego oraz właściwego
oddziału Zakładu Ubezpieczeń Społecznych lub Kasy Rolniczego Ubezpieczenia
Społecznego, potwierdzające odpowiednio, że wykonawca nie zalega z opłacaniem
podatków, opłat oraz składek na ubezpieczenie zdrowotne i społeczne, lub
zaświadczenia, że uzyskał przewidziane prawem zwolnienie, odroczenie lub rozłożenie
na raty zaległych płatności lub wstrzymanie w całości wykonania decyzji właściwego
organu – wystawione nie wcześniej niż 3 miesiące przed upływem terminu składania
wniosków o dopuszczenie do udziału w postępowaniu o udzielenie zamówienia
publicznego.
Aktualna informacja z Krajowego rejestru Karnego w zakresie określonym w Art. 24
ust. 1 pkt. 4-8 Ustawy, wystawiona nie wcześniej niż 6 miesięcy przed upływem terminu
składania ofert.
Aktualna informacja z Krajowego rejestru Karnego w zakresie określonym w Art. 24
ust. 1 pkt. 9 Ustawy, wystawiona nie wcześniej niż 6 miesięcy przed upływem terminu
składania ofert.
6
Wykaz wykonanego przynajmniej jednego doposażenia lub dostawy skaningowego
mikroskopu elektronowego do parametrach nie gorszych niż stanowiący podstawowy
przedmiot niniejszego zamówienia, w okresie ostatnich 3 lat przed wszczęciem
postępowania o udzielenie zamówienia, a jeżeli okres prowadzenia działalności jest
krótszy – w tym okresie, wraz z dokumentami potwierdzającymi, że te dostawy zostały
wykonane należycie (referencje, protokoły odbioru, itp.)
Wykonawcy z siedzibą poza terytorium Rzeczypospolitej Polskiej
1
2
3
4
5
6
Oświadczenie o spełnianiu warunków udziału w postępowaniu (Art. 22 ust 1 i Art. 24
ust. 1 Ustawy PZP).
Dokument potwierdzający, iż nie otwarto likwidacji, ani nie ogłoszono upadłości w
stosunku do Wykonawcy, wystawiony nie wcześniej niż 6 miesięcy przed upływem
terminu składania ofert.
Dokument potwierdzający, iż Wykonawca nie zalega z uiszczaniem podatków, opłat,
składek na ubezpieczenia społeczne i zdrowotne albo że uzyskał przewidziane prawem
zwolnienie, odroczenie lub rozłożenie na raty zaległych płatności lub wstrzymanie w
całości decyzji właściwego organu, wystawiony nie wcześniej niż 3 miesiące przed
upływem terminu składania ofert.
Dokument potwierdzający, iż nie orzeczono wobec Wykonawcy zakazu ubiegania się o
zamówienia, wystawiony nie wcześniej niż 6 miesięcy przed upływem terminu składania
ofert.
Zaświadczenie właściwego organu sądowego lub administracyjnego kraju pochodzenia
albo zamieszkania osoby, której dokumenty dotyczą, w zakresie Art. 24 ust. 1 pkt. 4-8
Ustawy, wystawiony nie wcześniej niż 6 miesięcy przed upływem terminu składania
ofert.
Wykaz wykonanego przynajmniej jednego doposażenia lub dostawy skaningowego
mikroskopu elektronowego do parametrach nie gorszych niż stanowiący podstawowy
przedmiot niniejszego zamówienia, w okresie ostatnich 3 lat przed wszczęciem
postępowania o udzielenie zamówienia, a jeżeli okres prowadzenia działalności jest
krótszy – w tym okresie, wraz z dokumentami potwierdzającymi, że te dostawy zostały
wykonane należycie (referencje, protokoły odbioru, itp.)
Jeżeli w kraju pochodzenia osoby lub w kraju, w którym Wykonawca ma siedzibę lub miejsce
zamieszkania, nie wydaje się dokumentów, o których powyżej, zastępuje się je dokumentem
zawierającym oświadczenie złożone przed notariuszem, właściwym organem sądowym,
administracyjnym albo organem samorządu zawodowego lub gospodarczego odpowiednio
kraju pochodzenia osoby lub kraju, w którym Wykonawca ma siedzibę lub miejsce
zamieszkania.
§5. Informacje o sposobie porozumiewania się zamawiającego z
wykonawcami, a także wskazanie osób uprawnionych do
porozumiewania się z wykonawcami:
1
2
Zamawiający będzie kontaktował się z wykonawcami drogą faksu lub na piśmie.
Osoby przewidziane do kontaktu z wykonawcami:
 Maciej Zajączkowski – fax: (+48 22) 847 00 82.
§6. Termin związania ofertą:
1
Zamawiający ustala termin związania ofertą na okres 60 dni od daty terminu składania
ofert.
§7. Wymagania dotyczące wadium:
1
2
3
4
5
Zamawiający ustala kwotę wadium na sumę: 20.000,00 PLN.
Zgodnie z Art. 44 ust. 6 wadium może być wnoszone w jednej lub kilku następujących
formach:
 pieniądzu;
 poręczeniach bankowych lub poręczeniach spółdzielczej kasy oszczędnościowokredytowej, z tym że poręczenie kasy jest zawsze poręczeniem;
 gwarancjach bankowych;
 gwarancjach ubezpieczeniowych;
 poręczeniach udzielanych przez podmioty, o których mowa w art. 6b ust. 5 pkt. 2
ustawy z dnia 9 listopada 2000r. o utworzeniu Polskiej Agencji Rozwoju
Przedsiębiorczości (Dz. U. Nr 109, poz. 1158, z późn. zm.).
Konto bankowe w przypadku wpłaty wadium lub zabezpieczania należytego wykon
onania zamówienia: BPH SA 77 1060 0076 0000 3210 0014 4494.
Zamawiający ustala kwotę zabezpieczenia należytego wykonania umowy na 10%
wartości zamówienia.
Zgodnie z Art. 148 ust. 1 zabezpieczenie może być wnoszone w jednej lub kilku
następujących formach:
 pieniądzu;
 poręczeniach bankowych lub poręczeniach spółdzielczej kasy oszczędnościowokredytowej, z tym że poręczenie kasy jest zawsze poręczeniem;
 gwarancjach bankowych;
 gwarancjach ubezpieczeniowych;
 poręczeniach udzielanych przez podmioty, o których mowa w Art. 6b ust. 5 pkt.
2 ustawy z dnia 9 listopada 2000r. o utworzeniu Polskiej Agencji Rozwoju
Przedsiębiorczości (Dz. U. Nr 109, poz. 1158, z późn. zm.).
§8. Opis sposobu przygotowania oferty:
1
2
3
4
Oferta powinna być sporządzona w języku polskim z zachowaniem formy pisemnej,
trwałą, czytelną techniką.
Każdy wykonawca może złożyć tylko jedną ofertę. Wykonawca, który przedłożył więcej
niż jedną ofertę, zostanie wyłączony z postępowania.
Oferta powinna dotyczyć całości zamówienia (Zadanie nr 1 i Zadanie nr 2 łącznie)
zgodnie z wymogami i warunkami specyfikacji. Nie dopuszcza się składania ofert
częściowych.
Oferta powinna zawierać:
 specyfikację techniczną urządzenia;
 termin dostawy;
 warunki dostawy;
 cenę za towar.
5
6
7
Kserokopia dowodu uiszczenia wadium powinna być załączona do oferty; oryginał
powinien być w odrębnej kopercie.
Wszystkie zapisane strony oferty powinny być ponumerowane, podpisane i zszyte.
Oferent powinien zamieścić ofertę w dwóch kopertach:
Na kopercie wewnętrznej powinien znajdować się adres i nazwa Zamawiającego oraz
napis: "Postępowanie o udzielenie zamówienia publicznego w trybie przetargu
nieograniczonego na Doposażenie posiadanego skaningowego mikroskopu
elektronowego z emisją polową (Neon 40 CrossBeam - workstations) wraz z systemem
do ultra-wysoko-rozdzielczej litografii elektronowej [DZPIE/017/2009]", koperta
zewnętrzna poza oznakowaniem jak wewnętrzna, powinna być opisana nazwą i adresem
Oferenta.
§9. Miejsce oraz termin składania i otwarcia ofert:
1
2
3
Ofertę należy złożyć w siedzibie Zamawiającego, budynek I pok. Nr. 101 (kancelaria
ogólna) w godzinach 9.00 ÷ 15.00 w dni robocze, do dnia 10 września 2009 r., do godz.
10:00.
W przypadku wysłania oferty pocztą (lub pocztą kurierską) za termin złożenia przyjmuje
się termin otrzymania oferty, a nie datę stempla pocztowego (nadania).
Otwarcie ofert odbędzie się w ostatnim dniu ich składania, w siedzibie Zamawiającego,
budynek I sala D o godzinie 10:00.
§10. Opis sposobu obliczenia ceny:
1
2
Cena wyrażona w „PLN”.
Cena powinna uwzględniać:
 koszt towaru, oprogramowania,
 koszty instalacji doposażenia i niezbędnych modernizacji systemu technicznie
wymaganych dla tych instalacji,
 koszty pakowania,
 koszty transportu i ubezpieczenie mikroskopu i doposażenia z IF PAN i do IF
PAN,
 koszty uruchomienia w IF PAN,
 koszty szkoleń i szkoleń aplikacyjnych (doszkalających) w IF PAN,
 podatki, cła, ubezpieczenia,
§11. Opis kryteriów, którymi zamawiający będzie się kierował przy
wyborze oferty w celu zawarcia umowy w sprawie zamówienia
publicznego:
1
2
3
4
Cena
Serwis
Wyposażenie dodatkowe wliczone w cenę całkowitą
Przy przeliczaniu punktów za „cenę” Zamawiający posłuży się wzorem:
C min
80
Cbad
80 pkt.
10 pkt.
10 pkt.
5
6
7
gdzie:
Cmin – cena najtańszej oferty;
Cbad – cena oferty badanej
Serwis będzie punktowany w następujący sposób:
1.
Wykonawca zapewni całościowy wliczony w cenę całkowitą przegląd elementów
urządzenia na miesiąc przed upływem terminu ich gwarancji:
 tak – 5 pkt.
 nie – 0 pkt.
2.
Serwisowanie całego zestawu aparatury przez:
 jedną autoryzowana firmę – 5 pkt.
 dwie autoryzowane firmy – 1 pkt.
 więcej niż dwie autoryzowane firmy – 0 pkt.
1. Zestaw dziesięciu (10) wolframowych sond (igieł) pomiarowych o średnicy
czubka (tip radius) nie większej niż 30nm, które muszą być wkładane w
uchwyt nanomanipulatora o średnicy o 0.5 mm.
 tak – 10 pkt.
 nie – 0 pkt
Oferta z najwyższym bilansem punktowym, zostanie uznana za najkorzystniejszą.
§12. Informacje o formalnościach, jakie powinny zostać dopełnione po
wyborze oferty w celu zawarcia umowy w sprawie zamówienia
publicznego:
1
Wykonawca, który wygra postępowania o udzielenie zamówienia publicznego, powinien
podpisać umowę w ciągu 7 dni od daty zakończenie terminu na wnoszenie protestów i
odwołań, na warunkach określonych w niniejszej specyfikacji istotnych warunków
zamówienia, jednak nie później niż termin związania ofertą.
§13. Istotne dla stron postanowienia, które zostaną wprowadzone do treści
zawieranej umowy w sprawie zamówienia publicznego:
1
2
3
4
5
Warunki płatności:
 750.000,00 PLN po dostarczeniu przedmiotu zamówienia, na podstawie faktury
VAT z 21 dniowym terminem płatności;
 pozostała kwota – po montażu i odbiorze protokolarnym przez wyznaczonych
pracowników IF PAN, na podstawie faktury VAT z 21 dniowym terminem
płatności.
Wykonawca dostarczy wraz z urządzeniem instrukcję obsługi w języku polskim lub
angielskim oraz kartę(y) gwarancyjną z zasadami świadczenia usług przez autoryzowany
serwis(y) w okresie gwarancyjnym i pogwarancyjnym
Gwarancja obejmuje: koszty serwisu, niezbędnych części zamiennych (bez materiałów
eksploatacyjnych), dojazdy pracownika serwisu oraz transport niesprawnego sprzętu.
Wykonawca usunie na swój koszt wszystkie wady ukryte sprzętu w ciągu 1 miesięcy od
daty ich ujawnienia w okresie trwania gwarancji (koszty pokrywa Wykonawca).
W przypadku wystąpienia opóźnienia w wykonaniu przedmiotu umowy, Wykonawca
zobowiązuje się zapłacić na rzecz Zamawiającego kary umowne w wysokości 0,1%
wartość umowy za każdy dzień zwłoki, począwszy od pierwszego dnia następującego po
6
umownym terminie wykonania. Suma kar umownych nie może przekroczyć 10%.
Zamawiający może potrącić karę umowną z wartości zobowiązania wobec Wykonawcy,
na co Wykonawca wyraża zgodę.
Zamawiający dopuszcza możliwość aneksowania umowy w zakresie terminu realizacji
przedmiotu zamówienia, w przypadku przedłużających się procedur modernizacji
pomieszczania przeznaczonego do instalacji sprzętu.
§14. Pouczenie o środkach ochrony prawnej:
Środki ochrony prawnej, przysługujące wszystkim wykonawcom, opisane są w Dziale VI
Prawa Zamówień Publicznych z dn. 29 stycznia 2004r (Dz. U. Nr 19, poz. 177 z dnia 9 lutego
2004 wraz z późniejszymi zmianami).
……………………………
pieczęć adresowa Oferenta
……………………………
data
Wymagane parametry techniczne
oferowanego wyposażenia określone w dwóch zadaniach
Zadanie 1. Zakup oprzyrządowania do Skaningowego Mikroskopu Elektronowego
(mikromanipulatory, precyzyjny stolik, system wstrzykiwania gazów GIS).
Lp.
1.
Minimalne wymagane parametry – niespełnienie spowoduje
odrzucenie oferty.
1. Mikromanipulatory współpracujące z nanomanipulatorami (zakup
przewidziany w zadaniu nr 2), do manipulacji strukturami na poziomie
mikrometrycznym oraz pomiarów elektrycznych. Doposażenie składa
się z mikromanipulatora z czterema igłami (sondami) do pomiarów
cztero sondowych (współpracującego z systemem nanomanipulatorów)
oraz dwóch mikrometrycznych manipulatorów nisko-oporowych i
nisko-szumowych (tip holder, Low-Current Measurement Kit) również
współpracujących z systemem nanomanipulatorów które pozwolą na
pomiary nisko–prądowe i nisko-pojemnościowe. Wymienione
mikromanipulatory wraz z maksymalnym wyposażeniem muszą być
fabrycznie nowe (rok produkcji 2009), dobrej jakości i muszą posiadać
właściwości typowe dla towaru tego rodzaju zwyczajowo przyjęte w
obrocie międzynarodowym. W pełni funkcjonalne urządzenia do
pomiarów elektrycznych oraz mikro i nano-manipulacji, muszą być
podłączone do posiadanego mikroskopu oraz muszą być sterowane
cyfrowo za pomocą oprogramowania zainstalowanego na komputerze
klasy PC i uruchamianego w środowisku Windows XP.
2. Mikromanipulatory wyżej wymienione muszą być sterowane
elektrycznie za pomocą materiału piezoelektrycznego o dryfcie nie
większym niż 1nm/min.
3. Sterowanie mikromanipulatorami nasadzanymi na nanomaniputator
musi odbywać się za pomaca cyfrowego oprogramowania
zainstalowanego na obecnym komputerze oraz musi istnieć możliwość
ręcznego sterowania nimi: za pomocą pokręteł na zasilaczach,
klawiatury oraz za pomocą mini joysticka. Oprogramowanie musi mieć
możliwość ręcznego wprowadzania komend w plik tekstowy ASCII a
następnie wczytanie ich do oprogramowania.
4. Parametry techniczne mikrometrycznego manipulatora (sondy) do
pomiarów nisko-prądowych i nisko-szumnych przewodnictwa
elektrycznego (druga ma takie same parametry):
musi być to nisko-oporowa i nisko-szumowa igła do
nanomanipulatora,
minimalny mierzony prąd – co najwyżej 1pA,
prąd upływu izolacji – co najwyżej 50 fA przy 1 V,
opór przewodnika sygnałowego najwyżej 0.9 Ω,
maksymalne napięcie - co najmniej 210 V,
maksymalny prąd - co najmniej 200mA.
5. System jednego zestawu do pomiarów nisko-prądowych i niskoszumnych współpracującego z nanomanipulatorem musi zawierać
Parametry doposażenia
oferowanego przez Oferenta.
Do wypełnienia przez
Oferenta
Potwierdzić lub opisać
(drugi ma zawierać to samo):
nisko-prądowy i nisko-napięciowy uchwyt (tip holder),
próżniowo kompatybilny kabel „triax-owy”,
obejmy do mocowania przewodów (cable clip),
flanszę próżniową,
przepust próżniowy,
kabel triax-owy po stronie zewnętrznej wraz z gniazdem,
instrukcję obsługi.
6. Obecny mikroskop musi być doposażony o mikromanipulator z
czteroma igłami (sondami) który musi być łatwo nasadzany na
nanomaniputator.
Parametry techniczne mikromanipulatora z czterema igłami (sondami)
do punktowych lokalnych pomiarów cztero sondowych (four-point
probe):
cztery igły pomiarowe rozmieszczone w minimalnych
odległościach nie większych niż 5 μm,
zakres pomiaru oporności od co najwyżej 1 mΩ do co
najmniej 10 MΩ,
pomiar prądu od co najwyżej 10 pA do co najmniej 1mA,
napięcie podawane od co najmniej ±1 V do ±12 V DC
(compliance voltage),
częstotliwość detekcji fazowej lock-in (dual frequency lockin) < 10 Hz do co najmniej 10kHz,
musi być wyposażony w system wykrywający dotkniecie
igieł mikromanipulatora do powierzchni próbki,
musi istnieć możliwość komunikowania się za pomocą portów
TCP/IP,
musi być wyposażony w układ (multiplekser) do wybierania
pinów do których ma być podawany prąd a do których
napięcie, 4 : 4 multiplekser,
napięcie zasilające 100 V – 240 V AC 50/60 Hz,
grubość igły nie większa niż 1 μm,
stała sprężystości igieł nie większa niż 5 N/m,
typowa powierzchnia kontaktu igły – do powierzchni metalu
od 10nm do 100nm (typical cantilever contact area (diameter)
– on metal surfaces 10nm to 100nm),
7. Podstawowe cechy układu z czteroma igłami (sondami) na
nanomaniputator o parametrach opisanych w punktach 2.5, 2.6, 2.7
Zadania 2:
musi być całkowicie kompatybilny z obecnym mikroskopem
Neon 40,
musi pracować w układzie wysokiej próżni (10-7 mbar).
8. Cały moduł z czterema igłami musi składać się :
z uchwytu do którego wkłada się holder z igłami
pomiarowymi, taki uchwyt przymocowuje się do
nanomanipulatora umieszczonego wewnątrz mikroskopu,
uchwyt musi być wykonany tak, aby można było do niego
wkładać układ czterech igieł pomiarowych rozmieszczonych
w różnych odległościach np. co 5 μm, 10 μm, 15 μm, 20 μm,
25 μm, 30 μm
stojącej oddzielnie jednostki sterującej tym modułem czteroigłowym
przepustu próżniowego wraz z dodatkową wtyczką do
przepustu elektrycznego,
oprogramowania do kontroli oraz do gromadzenia danych
pomiarowych, oprogramowanie musi pracować w oparciu o
platformę Lab-View (Instrumentation unit can be controlled
from Lab-View ® or via terminal program commands)
2.
3.
9. Do mikromanipulatora z czteroma igłami (sondami) musi być
dodany komplet pięciu holderów z czteroma igłami pomiarowymi
rozmieszczonych w równych odległościach nie większych niż 5 μm.
1. Precyzyjny stolik wraz z maksymalnym wyposażeniem musi być
fabrycznie nowy (rok produkcji 2009), dobrej jakości i musi posiadać
właściwości typowe dla towaru tego rodzaju zwyczajowo przyjęte w
obrocie międzynarodowym. Precyzyjny stolik musi umożliwiać
wykonywanie
elektrolitografii
struktur
półprzewodnikowych,
metalicznych i izolacyjnych w wysokiej rozdzielczości.
2. Średnica stolika nie może być większa niż średnica standardowego
stolika Zeiss.
1. System Wstrzykiwania Gazów GIS z zintegrowanym systemem do
kompensacji ładunku (Multi Gas Injection System GIS with integrated
Charge Compensation System) wraz z maksymalnym wyposażeniem
musi być fabrycznie nowy (rok produkcji 2009), dobrej jakości i musi
posiadać właściwości typowe dla towaru tego rodzaju zwyczajowo
przyjęte w obrocie międzynarodowym. W pełni funkcjonalne
urządzenie do depozycji i lokalnej kompensacji ładunku przy użyciu
wiązki elektronowej i jonowej musi być sterowane cyfrowo za pomocą
oprogramowania zainstalowanego na istniejącym komputerze klasy PC
i uruchamianego w środowisku Windows XP. Oprogramowanie do
sterowania systemem GIS i systemem kompensacji ładunku musi być
zintegrowane z obecnym oprogramowaniem do obsługi mikroskopu.
2. Jeden wielokanałowy system wstrzykiwania gazów z zintegrowanym
systemem do kompensacji ładunku musi spełniać następujące
parametry:
w ramach zadania 1 system GIS musi być wyposażony w 3
niezależnie kontrolowane linie wstrzykiwania gazu,
linie gazów służące do depozycji i lokalnego wstrzykiwania
gazu którego zadaniem jest kompensacja ładunku wiązki
elektronowej i jonowej muszą być oddzielnie grzane w
zakresie temperatur od co najmniej 30 do 90C,
każda pojedyncza linia wstrzykiwania gazu musi służyć do
precyzyjnego podawania gazów o jednym przeznaczeniu,
każda linia wstrzykiwania gazu musi być zakończona dyszą,
każdy zbiornik gazu, sam prekursor jak i dysza są ogrzewanie
niezależnie,
wykonanie depozytów metalami i izolatorami musi być
możliwe zarówno przy użyciu wiązki elektronowej (E-beam) i
wiązki jonowej (Ion beam),
musi istnieć możliwość łatwego napełniania oraz zdejmowania
zbiornika gazów oraz musi istnieć możliwość dodawania
nowych gazów przez podmianę istniejących,
każdy pojemnik z gazem musi być oddzielony od reszty
układu za pomocą zaworu pneumatycznego, otwieranie i
zamykanie zaworu musi być kontrolowane przez komputer i to
samo oprogramowanie co system GIS,
cały układ GIS (służący do depozycji, selektywnego trawienia
i kompensacji ładunku) musi być wyposażony we własny
automatyczny mikro-stolik do precyzyjnego wstrzykiwania
gazów, poruszany cyfrowo w osiach X.Y,Z, kontrolowany
przez komputer i przez to samo oprogramowanie co system
GIS,
musi zawierać puste pojemniki na prekursory,
maksymalne wymiary stolika to (70x70x95,5)mm,
zakres ruchu stolika minimum X=25mm, Y=25mm, Z=25mm,
wszystkie osie zmotoryzowane, szybkość ruchu stolika 75750μm s-1 z precyzją nie gorszą niż 1μm,
pojemność zbiornika na gazy nie może być mniejsza niż 1.9
cm3,
system wstrzykiwania gazów musi być całkowicie sterowany
przez komputer wyposażony w oprogramowanie w
maksymalnej wersji,
wymagane jest, aby podczas pracy utrzymywał się stabilny
strumień dostarczanego gazu,
system musi być wyposażony w układ do odpompowania
nadmiernego gazu gromadzonego w zbiorniku prekursora,
kontrola przepływu gazu używanego go kompensacji ładunku
od 0% do 100% musi być całkowicie kontrolowana przez
oprogramowanie,
podczas wykonywania depozycji i kompensacji ładunku musi
istnieć możliwość oglądania postępu wykonywanych prac
przez detektory które są i będą zainstalowane w mikroskopie
(detektory muszą być przystosowane do pracy w niskiej
próżni).
3. W ramach zadania 1 urządzenie musi być wyposażone w co najmniej
trzy oddzielne układy służące do podawania gazów roboczych:
układ pozwalający na nanoszenie złota,
układ pozwalający na nanoszenie materiałów izolacyjnych
SiO2,
układ kompensacji ładunków wiązki elektronowej i jonowej
wykorzystujący czysty azot N7.0.
4. Zainstalowane urządzenie powinno być całkowicie gotowe do
podawania gazów (dostarczone wraz z odpowiednimi pojemnikami na
gazy (prekursory), zaworami, wszystkimi obecnymi licencjami, płytami
CD z oprogramowaniem i sterownikami, przewodami oraz liniami
doprowadzającymi gazy).
5. System Neon 40 musi zostać zmodyfikowany i wyposażony w
odpowiednie systemy pompowania różnicowego, tak aby podczas
używania systemu kompensacji ładunku tzn. lokalnego obniżenia
próżni w pobliżu próbki nie dochodziło do pogarszania się próżni w
obszarze emitera i utraty jakichkolwiek parametrów obrazowania w
tym miedzy innymi rozdzielczości, stabilności itd.
6. Poszczególne układy punktowego podawania gazów muszą być
sterowane niezależnie, z poziomu głównego interfejsu użytkownika
urządzenia.
7. Musi istnieć sprzętowe oraz softwarowe zabezpieczenie aby uniknąć
kolizji ze strony stolika i innych zablokowanych detektorów.
8. Wykonanie testów depozycji z użyciem GIS za pomocą wiązki
jonowej (doposażenie w ramach zadania 2) jaki i elektronowej będzie
podstawą odbioru technicznego.
Wymagana zdolność rozdzielczość wiązki elektronowej przy użyciu
systemu kompensacji ładunku (w niskiej próżni 10 -3 mbar) < 4 nm przy
30 kV i <4 przy 1kV.
9. Dla zapewnienia odpowiedniej rozdzielczości depozycji metali i
tlenków system GIS musi być wyposażony w system kompensacji
lokalnych pól magnetycznych zapewniający odpowiednią stabilność
przestrzennego położenia wiązki elektronowej i jonowej. System do
kompensacji ładunku musi obejmować zarówno system detekcji pól
magnetycznych oraz zainstalowanie systemu cewek kompensujących w
pomieszczeniu gdzie znajduje się mikroskop Neon 40.
Układ eliminujący zewnętrzne pole magnetyczne powinien zapewniać
pracę na mikroskopem bez jakichkolwiek zakłóceń, a poza tym musi
spełniać szczegółowe wymagania podane poniżej.
Eliminuje pole magnetyczne jednocześnie w trzech wzajemnie
prostopadłych kierunkach X, Y, Z, gdzie Z jest kierunkiem
pionowym, co najmniej w zakresie częstotliwości od 0,5 Hz do
4 kHz.
Wymiary pomieszczenia, w którym znajduje się mikroskop: co
najmniej 5,1 m x 4,6 m x 2,7 m (wysokość). Pozostałe warunki
panujące w tym pomieszczeniu są do obejrzenia (m. in.:
elementy mikroskopu najbardziej wrażliwe na działanie pola
magnetycznego nie można ustawić w środkowej części
pomieszczenia).
Dopuszcza się jeden z poniższych sposobów prowadzenia pętli
przewodów (kabli) eliminujących pole magnetyczne (jeżeli nie
wpłynie to w istotny sposób na pogorszenie parametrów
określających tłumienie pola magnetycznego, jak np.
współczynnik tłumienia, maksymalna wartość tłumionego pola
magnetycznego lub inne parametry, preferowany będzie
sposób opisany w p. a):
a) poprowadzone jedynie po ścianach oraz ewentualnie
po suficie i podłodze pomieszczenia, w którym
znajduje się mikroskop w taki sposób, że nie
utrudniają dostępu do pomieszczenia, mikroskopu,
okien i drzwi,
b) poprowadzone głównie po ścianach oraz ewentualnie
po suficie i podłodze pomieszczenia, w którym
znajduje się mikroskop, lecz niektóre fragmenty pętli
mogą być poprowadzone poza ścianami, sufitem lub
podłogą, przy czym ich przebieg musi zostać
uzgodniony z zamawiającym i zaakceptowany przez
niego, a ich położenie nie utrudnia dostępu do
pomieszczenia, mikroskopu, okien i drzwi,
c) poprowadzone po krawędziach ramy o wymiarach i
kształcie
uzgodnionym
z
zamawiającym i
zaakceptowanym przez niego, obejmującej elementy
mikroskopu najbardziej wrażliwe na działanie
zewnętrznego pola magnetycznego, przy czym rama
ta ani poprowadzone po niej przewody (kable) nie
mogą utrudniać wkładania próbek do mikroskopu, ani
też wykonywania innych czynności związanych z
jego obsługą.
Poszczególne elementy układu oraz przewody (kable)
doprowadzające sygnały, a w tym przewody (kable)
doprowadzające sygnały do pętli opisanych w p. 3, nie mogą
utrudniać dostępu do pomieszczenia, w którym znajduje się
mikroskop oraz do okien i drzwi, ani też utrudniać dostępu do
mikroskopu i jego obsługi.
Tłumienie pola magnetycznego:
dla częstotliwości od 0,5 Hz do 0,6 Hz: co najmniej 3,5 razy
dla częstotliwości od 0,7 Hz do 0,8 Hz: co najmniej 5,5 razy
dla częstotliwości od 0,9 Hz do 1,0 Hz: co najmniej 7 razy
dla częstotliwości od 1,1 Hz do 1,3 Hz: co najmniej 8 razy
dla częstotliwości od 1,4 do 1,7 Hz: co najmniej 10 razy
dla częstotliwości od 1,8 Hz do 2,2 Hz: co najmniej 13 razy
dla częstotliwości od 2,3 Hz do 2,6 Hz: co najmniej 15 razy
dla częstotliwości od 2,7 Hz do 3,2 Hz: co najmniej 17 razy
dla częstotliwości od 3,3 Hz do 4,0 Hz: co najmniej 19 razy
dla częstotliwości od 4,1 Hz do 5,0 Hz: co najmniej 21 razy
dla częstotliwości od 5,10 Hz do 7,0 Hz: co najmniej 23 razy
dla częstotliwości od 7,1 Hz do 9,0 Hz: co najmniej 26 razy
dla częstotliwości od 9,1 Hz do 12,0 Hz: co najmniej 30 razy
dla częstotliwości od 13 Hz do 20 Hz: co najmniej 34 razy
dla częstotliwości od 21 Hz do 45 Hz: co najmniej 36 razy
dla częstotliwości od 46 Hz do 105 Hz: co najmniej 39 razy
dla częstotliwości od 106 Hz do 205 Hz: co najmniej 35 razy
dla częstotliwości od 206 Hz do 310 Hz: co najmniej 30 razy
dla częstotliwości od 311 Hz do 510 Hz: co najmniej 25 razy
dla częstotliwości od 511 Hz do 1020 Hz: co najmniej 15 razy
dla częstotliwości od 1021 Hz do 2020 Hz: co najmniej 8 razy
dla częstotliwości od 2021 Hz do 3020 Hz: co najmniej 3,5
razy
dla częstotliwości od 3021 Hz do 4000 Hz: co najmniej 2,5
razy.
Maksymalna wartość tłumionego pola magnetycznego: co
najmniej 4 μT pk-pk w kierunkach X, Y, co najmniej 2,5 μT
pk-pk w kierunku Z.
Minimalna wartość tłumionego pola magnetycznego: co
najwyżej 10 nT pk-pk.
Możliwość pomiaru w paśmie co najmniej od 5 Hz do 15 kHz
z rozdzielczością cyfrową co najmniej 3½ następujących
wielkości charakteryzujących pole magnetyczne:
a) wartość indukcji magnetycznej pk-pk w kierunkach
X, Y, Z co najmniej w zakresie od 0 do 4 μT,
b) wartość skuteczną indukcji magnetycznej w
kierunkach X, Y, Z co najmniej w zakresie od 0 do 2
μT,
c) całkowitą wartość indukcji magnetycznej pk-pk co
najmniej w zakresie od 0 do 6,5 μT,
d) całkowitą wartość skuteczną indukcji magnetycznej
co najmniej w zakresie od 0 do 3 μT.
Dopuszczalny błąd pomiaru wielkości opisanych w p. 8: co
najwyżej 2% wartości odczytanej ± 1 nT.
Analogowa zdolność rozdzielcza odczytu wyniku pomiaru: 1
nT lub lepsza.
Wyjścia umożliwiające obserwację pola magnetycznego na
oscyloskopie.
Wymagany okres gwarancji na poprawne działanie układu
zapewniające pracę mikroskopu bez zakłóceń pochodzących
od pól magnetycznych oraz spełnienie wszystkich w/w
parametrów technicznych: co najmniej 1 rok.
Zadanie 2. Doposażenie mikroskopu elektronowego w działo jonowe FIB (focused ion
beam) oraz inne oprzyrządowanie.
Lp.
1.
Minimalne wymagane parametry – niespełnienie spowoduje
odrzucenie oferty.
1. Działo jonowe wraz z instalacją z maksymalnym wyposażeniem
musi być fabrycznie nowe (rok produkcji 2009), dobrej jakości i musi
posiadać właściwości typowe dla towaru tego rodzaju zwyczajowo
przyjęte w obrocie międzynarodowym. W pełni funkcjonalne
urządzenie do trawienia i depozycji oraz obrazowania przy użyciu
zogniskowanej wiązki jonowej (Focused Ion Beam) musi być
sterowane cyfrowo za pomocą oprogramowania (ze wszystkimi
obecnymi licencjami oraz płytami instalacyjnymi) zainstalowanego na
istniejącym komputerze klasy PC i uruchamiane w środowisku
Windows XP.
2. Działo jonowe (FIB) musi być podłączone do istniejącego
Skaningowego Mikroskopu Elektronowego Neon 40 firmy Zeiss
wyposażonego w działo elektronowe z termiczną emisją polową
(katoda Schottky) wraz z systemem do ultra-wysoko- rozdzielczej
litografii elektronowej Elphy Plus firmy Raith oraz innym
oprzyrządowaniem oraz musi współdziałać z istniejącym systemem
jako całość.
3. Kolumna FIB powinna charakteryzować się następującymi cechami:
- źródło jonów galu Ga+ o dużej trwałości (1500μAhours),
- mechaniczny przesuw XY oraz możliwość pochylania w celu
regulacji źródła,
- co najmniej dwie elektrostatyczne soczewki w układzie optyki
jonowej,
- elektrostatyczny stygmator oktupolowy,
- wbudowany Elektrostatyczny Beam Blanker (20ns),
- klatka Faradaya wewnątrz kolumny w celu pomiaru natężenia
wiązki,
- automatyczny zawór izolujący,
- dyferencyjny system pomp jonowych,
próżniowych i
bezolejowych,
- automatyczna zmotoryzowana regulacja apertury FIB z bardzo
dużą odtwarzalnością,
- minimum 13 pozycji apertury,
- gęstość prądu > 20A/cm2,
- cały system powinien być automatyczny i cyfrowo kontrolowany
przez komputer,
- temperatura bakeout regulowana cyfrowo w zakresie do co
najmniej 170 C,
- próżnia panująca w źródle galu musi być < 10-9 torr.
4. Zdolność rozdzielcza wiązki jonów FIB nie może być gorsza niż:
- 2,5nm przy napięciu przyspieszającym 30 kV i prądzie wiązki
jonowej 1pA.
- 5nm przy napięciu przyspieszającym 30 kV i prądzie wiązki jonowej
10pA.
Test rozdzielczości działa jonowego będzie podstawą jego odbioru
technicznego.
5. Minimalny wymagany prąd wiązki FIB ≤ 1pA a maksymalny ≥
50nA.
Niezależna cyfrowa regulacja prądu wiązki jonowej na próbce.
6. Prąd wiązki jonowej musi być mierzony cyfrowo w zakresach
minimum ≤ 1pA a maksymalnym ≥ 50nA.
7. Napięcie przyspieszające FIB regulowane cyfrowo-płynnie w
zakresie nie mniejszym niż od 1kV do 30kV oraz musi istnieć
możliwość pracy w całym zakresie napięć.
8. Działo jonowe musi umożliwiać obserwację w zakresie powiększeń
od co najwyżej 300 razy do co najmniej 500 000 razy dla próbki
umieszczonej w eucentrycznej odległości roboczej (w przypadku
monitora o przekątnej 19 cali).
9. Działo jonowe musi posiadać zmienną regulację powiększenia:
cyfrowo (quasi- płynnie) w całym zakresie.
10. Komora działa jonowego musi być pompowana dwoma pompami
jonowymi do uzyskania wysokiej próżni w obszarze emitera i kolumny
i odcinana zaworem od reszty kolumny.
Minimalne ciśnienie robocze wymagane do pracy musi być 5*10 -5
mbar.
Wymagany bezolejowy układ próżniowy.
11. Analityczna odległość robocza dla działa elektronowego wynosi co
najmniej 5mm natomiast w przypadku pracy z działem jonowym musi
wynosić co najmniej 12mm.
12. Automatyczne włączenie i ustalenie warunków pracy działa
jonowego musi być ustawiane przez to samo oprogramowanie służące
do obsługi mikroskopu.
13. System obsługujący działo jonowe powinien być sterowany przez to
samo oprogramowanie, które steruje pracą SEM i powinno być
całkowicie obsługiwane przez komputer gdyż układ jako całość musi
pracować jako Crossbeam.
System powinien zachowywać stałe warunki we wszystkich trybach
pracy (brak zmian charakterystyki pola na próbce podczas zmiany
ostrości i napięcia przyspieszającego)
14. Oprogramowanie musi umożliwiać monitorowanie wiązką
elektronową i jonową procesu trawienia oraz depozycji przy użyciu
zarówno wiązki jonowej i elektronowej, układ będzie wtedy pracował
w konfiguracji Crossbeam. Cecha ta jest szczególnie istotna w aspekcie
przygotowania próbek do transmisyjnego mikroskopu elektronowego.
15. Oprogramowanie do obsługi działa jonowego i elektronowego,
systemu wstrzykiwania gazów z kompensacją ładunku oprócz
podstawowych funkcji musi umożliwiać korekcje dryfu oraz
automatyczne wykonywanie depozycji, trawienia, według ustalonych
wzorów, przekrojów oraz preparatów do TEM (lamellas) bez udziału
operatora (automatyczne sekwencyjne trawienie preparatów TEM).
Musi istnieć możliwość uzyskiwania wzorów trawienia i nanoszenia
według importowanych map bitowych.
16. Istniejący system do litografii elektronowej ELPHY Plus firmy
Raith musi być wyposażony o urządzenia (switch box) i
oprogramowanie umożliwiające wykonywanie nanostrukturyzacji
materiałów przy używaniu zarówno wiązki jonowej jak i elektronowej.
17. Aby zapewnić pełną funkcjonalność systemu FIB, system ten musi
być wyposażony w detektory dzięki którym będzie można wykonywać
obrazowanie oraz analizę próbek wykonanych przy użyciu działa
jonowego i działa elektronowego:
- istniejący detektor elektronów wstecznie rozproszonych zamontowany
obecnie wewnątrz komory mikroskopu musi być przeniesiony do
wnętrza kolumny działa elektronowego i pełnić funkcje wewnątrzsoczewkowego detektora elektronów wstecznie rozproszonych z
selekcją energii (EsB) wykrywającego elektrony wstecznie rozproszone
o małych stratach energii („low loss”) po to, aby ochronić go przed
działaniem reaktywnych gazów z systemu GIS,
- detektor elektronów przechodzących STEM wraz z uchwytem na
pojedynczą próbkę (sample holder – STEM single) do obserwacji
struktur wykonanych za pomocą działa jonowego i elektronowego.
Detektor ten musi umożliwiać obserwacje struktur w jasnym i ciemnym
polu przy użyciu transmisyjnej mikroskopii skaningowej.
- detektor jonów wtórnych.
18. Działo jonowe FIB musi być wyposażone w światłowodowy system
zbierania katodoluminescencji CL, pozwalający na kontrolę grubości
trawionych struktur wielowarstwowych.
Światłowód o średnicy nie mniejszej niż 12mm musi umożliwiać
pomiary katodoluminescencji w zakresie co najmniej obejmującym
długość fali od 180 nm do 1200 nm. Światłowód musi być umieszczony
w przepuście próżniowym mikroskopu.
Jeden koniec światłowodu, który jest umieszczony w komorze
mikroskopu musi mieć możliwość poruszania z zewnątrz, po to żeby
można nim było się zbliżyć do powierzchni próbki, natomiast drugi
koniec światłowodu który ma być podłączany do posiadanego przez
Zamawiającego monochromatora z kamera CCD firmy Jobin Ivon
model 270M za pomocą wejścia SMA. Na światłowód który wychodzi
na zewnątrz mikroskopu i ma średnicę nie mniejszą niż 12 mm musi
być nakładana końcówka (kolimator) tak aby przejść z 12 mm na SMA
(światłowód 12 mm – kolimator z 12 mm na SMA – monochromator z
wejściem SMA).
W celu uzyskania większej wydajności CL prąd wiązki elektronowej
próbki musi być zwiększony do wartości co najmniej 80nA. Regulacja
cyfrowa prądu wiązki na próbce w zakresie od 4 pA do co najmniej 80
nA. Wymagana stabilność prądu wiązki nie gorsza niż 0,2%/godz
(zgodnie z oryginalną specyfikacją).
Musi istnieć możliwość rozbudowy układu do nisko-temperaturowej
obrazowej
katodoluminescencji
wraz
ze
spektrometrem,
fotopowielaczem i kamerą CCD
2.
19. Aby istniała możliwość pracy ze wszystkimi zakupywanymi
przyrządami oraz już posiadanymi w komorze mikroskopu w sposób
bezkolizyjny mikroskop musi być wyposażony w oprogramowanie do
podglądu komory mikroskopu z dwóch kamer tzn. zdjęcie w zdjęciu
(Picture in picture display for chamber score).
1. Nanomanipulatory do manipulacji strukturami z rozdzielczością
nanometryczną oraz do pomiarów elektrycznych wraz z przyrządami
pomiarowymi, z maksymalnym wyposażeniem muszą być fabrycznie
nowe (rok produkcji 2009), dobrej jakości i muszą posiadać
właściwości typowe dla towaru tego rodzaju zwyczajowo przyjęte w
obrocie
międzynarodowym.
W
pełni
funkcjonalne
dwa
nanomanipulatory do pomiarów elektrycznych oraz nanomanipulacji,
muszą być podłączone do posiadanego mikroskopu oraz muszą być
sterowane cyfrowo za pomocą oprogramowania zainstalowanego na
komputerze klasy PC i uruchamianego w środowisku Windows XP.
2.
Dwa
nanomanipulatory
muszą
współpracować
z
mikromanipulatorem cztero sondowym oraz z końcówkami niskoprądowymi i nisko-szumnymi zakupionymi w ramach zadania 1.
3. Dwa nanomanipulatory, mikromanipulator wraz z końcówkami
nisko-prądowymi i nisko-szumnymi muszą pozwalać na manipulacje na
powierzchni preparatu w skali mikro i nano oraz pomiary elektryczne,
mają być sterowane elektrycznie za pomocą materiału
piezoelektrycznego, każdy o dryfcie nie większym niż 1nm/min.
4. Dwa nanomanipulatory muszą być zamontowane w obecnym
mikroskopie w pozycji zwanej „Roof mount” tzn. zamontowane na
suficie komory mikroskopu w takich miejscach aby nie zakłócało to
pracy wszystkich pozostałych urządzeń zamontowanych w komorze
mikroskopu (bezkolizyjność pracy) oraz zamocowanie ma umożliwiać
wykonywanie pomiarów elektrycznych w całym zakresie pracy
nanomanipulatorów i stolika.
5. Parametry techniczne nanomanipulatora (drugi ma takie same
parametry)
(oznaczenie A = up/down , B = left/right, C = in/out):
długość nanomanipulatora mniejsza lub równa 60 mm
szerokość nanomanipulatora mniejsza lub równa 22 mm
wysokość nanomanipulatora mniejsza lub równa 25 mm
ciężar nanomanipulatora mniejszy lub równy 45 g
zakres pracy AB większy lub równy 240 stopni
zakres pracy C większy lub równy 12 mm
zakres piezo A większy lub równy 4x10e-4 rad (20μm)
zakres piezo B większy lub równy 4x10e-4 rad (15μm)
zakres piezo C większy lub równy 1μm
prędkość przesuwu w ruchu AB do 10 mm/s
prędkość przesuwu w ruchu C do 2 mm/s
obszar roboczy większy lub równy 100 cm3
sub-nanometrowa rozdzielczość A lepsza niż 10e-7 rad (5 nm)
sub-nanometrowa rozdzielczość B lepsza niż 10e-7 rad (3.5
nm)
sub-nanometrowa rozdzielczość C lepsza niż 0.25 nm
siłą trzymania (holding force) ≥ 1 N
moment trzymania (holding torque) do 3 do 4 Nmm
histereza liniowa (hysterisis deviation) C < 200 nm
histereza kątowa (hysterisis angle) C < 10 stopni (0.2 rad)
opór przewodnika pomiarowego < 7.0 Ω
zakres pomiaru prądu za pomocą standardowej sondy
(końcówki nanomanipulatora) większy lub równy 10nA100mA
maksymalne możliwe przykładane napięcie przy użyciu sondy
po pomiarów elektrycznych musi być większe lub równe 100V
praca w zakresie temperatur od co najmniej 273 K do 353K
praca w próżni nie gorszej niż 10-7 mbar
wykonany ze stali nierdzewnej odporny na korozje i na
działanie gazów z systemu GIS
sondy (igły) nanomanipulatorów muszą w łatwy sposób
zdejmować się oraz nakładać na nanomanipulatory
zamontowane w komorze mikroskopu
całe nanomanipulatory muszą łatwo się zdejmować z górnej
ściany mikroskopu oraz musi być możliwość zamontowania
ich w na standardowym stoliku Zeiss tzn. musi być dodany
uchwyt który przymocowuje się do standardowego stolika
Zeiss a do tego uchwytu nanomanipulatory,
prace wykonywane przez nanomanipulatory muszą być
kontrolowane wykorzystując działo elektronowe i jonowe
poprzez obrazowanie prac,
nieczuły na wibracje,
dwa mody ruszania nanomanipulatorami zgrubny i dokładny.
6.
Parametry
techniczne
nano-kontrolera
elektrycznego
nanomanipulatora (drugi ma takie same parametry):
musi być cztero kanałowy,
napędzany przez 16 bitowy micro-kontroler,
12 bitowa rozdzielczość,
wyposażony w pokrętła do ręcznego sterowania
nanomanipulatorami,
podłączony do komputera za pomacą portu szeregowego
RS232,
napięcie wyjścia ±80 V,
maksymalny prąd wyjścia 1 A,
maksymalny ciągły prąd DC 1.6 mA,
napięcie zasilania (supply voltage) ±5 V, ±100 V,
napięcie zasilające 115/230 V AC 50/60 Hz.
7. System jednego nanomanipulatora musi zawierać (drugi ma zawierać
to samo):
odizolowaną końcówkę pomiarową (isolated tip for probing),
uchwyt trzymający igłę pomiarową o średnicy 0.5 mm (tip
holder for probe needles with 0.5 mm diameter),
igła pomiarowa (sample probe needles),
przepust próżniowy wielożyłowy,
instrukcje obsługi,
elektroniczny
nano-kontroler
z
joypad-em
oraz
oprogramowanie z licencjami działające w systemie Windows
XP.
8. System do pomiarów elektrycznych nanostruktur
przeprowadzonych wewnątrz systemu Neon 40 musi być wyposażony
w następujące przyrządy elektroniczne firmy Keithley:
elektrometr model 6514 wraz z akcesoriami dostarczanymi z
tym przyrządem przez firmę Keithley
źródło prądowe model 6221 wraz z akcesoriami dostarczanymi
z tym przyrządem przez firmę Keithley
nanowoltomierz model 2182A wraz z akcesoriami
dostarczanymi z tym przyrządem przez firmę Keithley.
Wszystkie przyrządy muszą być wyposażone w interfejsy IEEE 488 –
GPIB.
Wszystkie wymienione przyrządy elektroniczne muszą być podłączone
do nano-kontrolerów elektrycznych których celem jest miedzy innymi
przekazywanie sygnałów elektrycznych do sond pomiarowych oraz
odbieranie sygnałów od nich, celem wykonania pomiarów
transportowych.
Ze względu na konieczność zachowania kompatybilności z istniejącym
oprzyrządowaniem i oprogramowaniem do pomiarów transportowych,
nie można zastosować przyrządów innego producenta. Co więcej
niezbędne jest zapewnienie kompatybilności typu kabli i gniazd
elektrycznych.
9. Komora mikroskopu musi być doposażona o przepust próżniowy do
którego mają być podłączone nanomanipulatory za pomocą których
będą wykonywane pomiary elektryczne. Ilość pinów w przepuście musi
być wystarczająca do tego a żeby w przyszłości podłączyć większą
ilość nanomanipulatorów o różnym ich przeznaczeniu.
10. Sterowanie nanomanipulatorami musi odbywać się za pomocą
cyfrowego oprogramowania zainstalowanego na obecnym komputerze
oraz musi istnieć możliwość ręcznego sterowania nimi: za pomocą
pokręteł na zasilaczach, klawiatury i za pomocą mini joysticka.
Oprogramowanie musi mieć możliwość ręcznego wprowadzenia
komend w plik tekstowy ASCII a następnie wczytanie go do
oprogramowania.
3.
11. Kontrolery elektryczne do sterowania nanomanipulatorami oraz
mierniki własności elektrycznych (3 przyrządy Keithley) muszą stać na
nowym dostarczonym stole którego wygląd zewnętrzny nie będzie
różnił się od obecnego stołu na którym stoi sterowanie mikroskopu.
1. Komora załadowcza z systemem cichej pracy (Airlock with quiet
mode) wraz z maksymalnym wyposażeniem musi być fabrycznie nowa
(rok produkcji 2009), dobrej jakości i musi posiadać właściwości
typowe dla towaru tego rodzaju zwyczajowo przyjęte w obrocie
międzynarodowym. W pełni funkcjonalne urządzenie do szybkiego
wprowadzania próbek i systemem cichej pracy, musi być podłączone
do posiadanego mikroskopu oraz musi być sterowane za pomocą
oprogramowania zainstalowanego na istniejącym komputerze klasy PC
i uruchamianego w środowisku Windows XP. Oprogramowanie do
sterowania śluzą i systemem cichej pracy musi być zintegrowane z
obecnym oprogramowaniem do obsługi mikroskopu.
2. System cichej pracy (quiet mode) musi być tak zbudowany, że
pomiędzy posiadaną pompą wstępną scroll a pompą turbomolekularną
mikroskopu jest próżniowy zbiornik buforowy pozwalający na
nieciągłą prace pompy wstępnej. Taki system musi pracować
automatycznie bez udziału operatora i być kontrolowany przez
oprogramowanie na komputerze.
3. Śluza musi być podłączona do mikroskopu za pomocą zaworu o
średnicy przelotu większej lub równej 80mm i musi być podłączona do
bezolejowego systemu pompowania.
4.
4 Śluza musi być automatycznie zaazotowywana za pomocą czystego
azotu z butli, używanego również do zaazotowywania komory
mikroskopu.
1. Stolik piezoelektryczny (Piezzo Substage) wraz z maksymalnym
wyposażeniem musi być fabrycznie nowy (rok produkcji 2009), dobrej
jakości i musi posiadać właściwości typowe dla towaru tego rodzaju
zwyczajowo przyjęte w obrocie międzynarodowym. W pełni
funkcjonalne urządzenie do przesuwu preparatów w dwóch kierunkach
X,Y z możliwością precyzyjnej zmiany położenia preparatu, musi być
podłączone do posiadanego mikroskopu oraz musi być sterowane
cyfrowo za pomocą oprogramowania zainstalowanego na istniejącym
komputerze klasy PC i uruchamianego w środowisku Windows XP.
Sterowanie stolikiem piezoelektrycznym musi odbywać się za pomocą
tego samego oprogramowania co używane do obecnego standardowego
stolik Zeiss w mikroskopie.
2. Zadaniem stolika piezoelektrycznego musi być poprawienie
dokładności i funkcjonalności standardowego stolika mikroskopu w
procesach litograficznych oraz w procesach gdzie wykorzystuje się
wiązkę elektronową i jonową.
3. Stolik działający w oparciu o element piezoelektryczny musi z
łatwością nasadzać się i zdejmować z posiadanego standartowego
stolika Zeiss w komorze mikroskopie.
4. Stolik piezoelektryczny powinien być dostosowany do pracy w
wysokiej próżni. Komora mikroskopu musi być doposażona o przepust
próżniowy do którego ma być podłączany stolik piezoelektryczny.
5 Musi istnieć możliwość używania dwóch stolików tzn.
piezoelektrycznego i standardowego Zeiss na przemian podczas pracy.
6. Parametry techniczne stolika piezoelektrycznego:
długość stolika mniejsza lub równa 128 mm
szerokość stolika mniejsza lub równa 128 mm
wysokość stolika mniejsza lub równa 15 mm
ciężar stolika mniejszy lub równy 490 g
przesuw XY w zakresie większym lub równym 30 mm
płynne ruchy w całym zakresie
prędkość przesuwu większa lub równa 2 mm/s
sub-nanomertowa rozdzielczość < 0.5 nm
powtarzalność lepsza lub równa 50 nm
ciężar próbki co najmniej 500 g
praca w zakresie temperatur co najmniej od 273 K do 353 K
praca w próżni nie gorszej niż 10-7 mbar
montowanie stolika 4 x 3,2 mm holes
montowanie próbki 4 x M3 holes
wykonany ze stali nierdzewnej
powinien być praktycznie nieczuły na wibracje
dryft na poziomie 1nm/min
odchylenie kątowe (anglular deviation) < 1μrad.
7. Po pochyleniu standardowego stolika Zeiss w zakresie od -10 do 60
stopni, stolik piezoelektryczny musi pracować tak samo jak w poziomie
tzn. po pochyleniu musi pozwalać na przesuw z wymienioną w punkcie
6 precyzją oraz musi utrzymywać zadane pozycje a nie zjeżdżać pod
własnym ciężarem. Jest to istotne do pracy w konfiguracji cross-beam
która ma to umożliwiać.
5.
7. Oprogramowanie piezo-stolika musi zapamiętywać wybrane pozycje
preparatu i automatycznie powracać do nich oraz musi być wyposażone
w system trzy-punktowego wyrównania.
1. System Wstrzykiwania Gazów GIS (Gas Injection System) z
zintegrowanym systemem do kompensacji ładunku wraz z
maksymalnym wyposażeniem musi być fabrycznie nowy (rok produkcji
2009), dobrej jakości i musi posiadać właściwości typowe dla towaru
tego rodzaju zwyczajowo przyjęte w obrocie międzynarodowym. W
pełni funkcjonalne urządzenie do selektywnego trawienia oraz do
depozycji materiałów przy użyciu wiązki elektronowej i jonowej musi
być sterowane cyfrowo za pomocą oprogramowania zainstalowanego
na istniejącym komputerze klasy PC i uruchamianego w środowisku
Windows XP. Oprogramowanie do sterowania systemem GIS musi być
zintegrowane z obecnym oprogramowaniem do obsługi mikroskopu.
2. Jeden wielokanałowy system wstrzykiwania gazów ze
zintegrowanym systemem do kompensacji ładunku musi spełniać
następujące parametry:
w ramach zadania 2 system GIS musi być doposażony o 2
niezależnie kontrolowane linie wstrzykiwania gazu,
linie gazów służące do trawienia oraz do depozycji materiałów
przy użyciu wiązki elektronowej i jonowej muszą być
oddzielnie grzane w zakresie temperatur od co najmniej 30 do
90C,
każda pojedyncza linia wstrzykiwania gazu musi służyć do
precyzyjnego podawania gazów o jednym przeznaczeniu,
każda linia wstrzykiwania gazu musi być zakończona dyszą,
każdy zbiornik gazu, sam prekursor jak i dysza są ogrzewanie
niezależnie,
wykonywanie depozytów i trawienia musi być możliwe
zarówno przy użyciu wiązki elektronowej (E-beam) i wiązki
jonowej (Ion beam),
musi istnieć możliwość łatwego napełniania oraz zdejmowania
zbiornika gazów oraz musi istnieć możliwość dodania nowych
gazów przez podmianę istniejących,
każdy pojemnik z gazem musi być oddzielony od reszty
układu za pomocą zaworu pneumatycznego, otwieranie i
zamykanie zaworu musi być kontrolowane przez komputer i to
samo oprogramowanie co system GIS,
pojemność zbiornika na gazy nie może być mniejsza niż 1.9
cm3,
musi zawierać puste pojemniki na prekursory,
system wstrzykiwania gazów musi być całkowicie sterowany
przez komputer wyposażony w oprogramowanie w
maksymalnej wersji,
wymagane jest, aby podczas pracy utrzymywał się stabilny
strumień dostarczanego gazu,
system musi być wyposażony w układ do odpompowania
nadmiernego gazu gromadzonego w zbiorniku prekursora,
podczas wykonywania selektywnego trawienia i depozycji
musi istnieć możliwość oglądania postępu wykonywanych
prac przez detektory które są i będą zainstalowane w
mikroskopie.
3. Urządzenie musi być wyposażone w co najmniej dwa oddzielne
układy służące do podawania gazów roboczych:
- układ przyspieszający proces trawienia materiałów XeF2 (na podłożu
Si)
- układ pozwalający na nanoszenie platyny.
4. Zainstalowane urządzenie powinno być całkowicie gotowe do
podawania gazów (dostarczone wraz z odpowiednimi pojemnikami na
gazy (prekursory), zaworami, wszystkimi obecnymi licencjami, płytami
CD z oprogramowaniem i sterownikami, przewodami oraz liniami
doprowadzającymi gazy.
5. Poszczególne układy punktowego podawania gazów muszą być
sterowane niezależnie, z poziomu głównego interfejsu użytkownika
urządzenia.
6. Musi istnieć sprzętowe oraz softwerowe zabezpieczenie aby uniknąć
kolizji ze strony stolika i innych zablokowanych detektorów.
7. Wykonanie testów depozycji i trawienia z użyciem GIS za pomocą
wiązki jonowej jaki i elektronowej będzie podstawą odbioru
technicznego.
…………………………
pieczęć imienna Oferenta
……………………………
……………………………
pieczęć adresowa Oferenta
data
Oświadczenie
Przystępując do postępowania w sprawie udzielenia zamówienia publicznego oświadczam/y,
że spełniam/y warunki udziału w niniejszym postępowaniu zawarte w art. 22 ust. 1 Ustawy –
Prawo zamówień publicznych, który stanowi, że o udzielenie zamówienia mogą ubiegać się
wykonawcy, którzy:
1) posiadają uprawnienia do wykonywania określonej działalności lub czynności, jeżeli
ustawy nakładają obowiązek posiadania takich uprawnień;
2) posiadają niezbędną wiedzę i doświadczenie oraz dysponują potencjałem technicznym
i osobami zdolnymi do wykonania zamówienia lub przedstawią pisemne zobowiązanie
innych podmiotów do udostępnienia potencjału technicznego i osób zdolnych do
wykonania zamówienia;
3) znajdują się w sytuacji ekonomicznej i finansowej zapewniającej wykonanie
zamówienia;
4) nie podlegają wykluczeniu z postępowania o udzielenie zamówienia.
…………………………
pieczęć imienna Oferenta
……………………………
……………………………
pieczęć adresowa Oferenta
data
Wykaz części zamówienia, które Wykonawca powierzy
podwykonawcom.
Lp
Zakres zamówienia, który Wykonawca zamierza powierzyć
podwykonawcom
1
2
3
4
5
…………………………
pieczęć imienna Oferenta