Szanowni Państwo! - Politechnika Łódzka

Szanowni Państwo!
Stowarzyszenie Project Management Institute (PMI) Poland Chapter ma przyjemność
zaprosić na seminarium Oddziału Łódzkiego pn.:
Jakie korzyści da Tobie przynaleŜność do Stowarzyszenia PMI?
Bartłomiej Dziuba
Bartłomiej Dziuba pracuje zawodowo w strukturach projektowych od roku 2000. Doświadczenie zdobywał
prowadząc duŜe projekty oraz zarządzając międzynarodowymi zespołami. Certyfikowany Kierownik Projektu –
PMP oraz Ekspert w obszarze IT Service Management. NaleŜy do stowarzyszenia PMI Poland Chapter od roku
2005. Pomysłodawca i współzałoŜyciel Łódzkiego Oddziału PMI. Absolwent Politechniki Łódzkiej, Uniwersytetu
Łódzkiego i Amerykańskiego programu Executive MBA.
Wstęp do planowania według PMBOK
Łukasz Bałczewski
Absolwent Politechniki Łódzkiej (International Faculty of Engineering) i Coventry University w Wielkiej Brytanii
na kierunkach Mechanical Engineering and Applied Computer Science oraz Project Management.
W strukturach PMI PC Lodz Branch od 2009 roku.
Specjalista w zarządzaniu międzynarodowymi i rozproszonymi projektami z zakresu rebrandingu i wdroŜeń
identyfikacji wizualnej. Prowadził projekty w Wielkiej Brytanii, Norwegii i Kuwejcie dla takich firm jak: Holiday Inn,
Premier Inn czy Gensler.
Termin: 22 września 2010 w godzinach 18:00-20:00; rejestracja od godziny 17:30
Miejsce: Centrum Kształcenia Międzynarodowego (IFE), Politechnika Łódzka,
ul.świrki 36, 90-924 Łódź
Seminarium jest bezpłatne i uprawnia do rejestracji 2 PDU dla osób posiadających
certyfikat PMP.
Pozdrawiamy i serdecznie zapraszamy,
Zarząd PMI Poland oddział Łódź
Budujem y profesjonalizm
w zarządzaniu projektami
G lob al na s poł e cz no ś ć. W i el e moŜ liw oś ci a b y z a cz ą ć ,
z budow ać i roz w in ąć sw oją k a ri e rę w z a rz ą dz an iu pr oj ek t a mi .
Zost ań cz łon ki e m P r oje ct M anag em ent I n st it ut e i p rz ył ącz si ę
do Łó dz k i ego O ddz ia łu ( cz ęś ć P ol and C ha pt e r) .
Doł ą cz d o g ro na p rof es jon a li st ów .
w w w .pmi .o rg. pl
Mapa dojazdu:
Copyright