Laboratorium Technologii Nowych Materiałów Funkcjonalnych

Laboratorium Technologii Nowych Materiałów Funkcjonalnych kandydata na stanowisko doktoranta
w dziedzinie chemii obliczeniowej.
Przedmiotem badań będą teoretyczne rozważania nad możliwością osiągnięcia nietypowych bardzo
wysokich formalnych stopni utlenienia (rozebranie atomów aż do elektronów rdzenia) w wybranych
azotkach, tlenkach i fluorkach metali przejściowych i lantanowców.
Kwalifikacje kandydatów:






tytuł magistra w zakresie chemii, fizyki lub dziedzin pokrewnych (może być student
ostatniego roku z wyznaczonym terminem obrony)
dobra znajomość j. angielskiego
umiejętność obsługi programów do obliczeń kwantowo-chemicznych oraz znajomość metod
chemii obliczeniowej
znajomość systemu operacyjnego typu UNIX na poziomie co najmniej użytkownika
dobra umiejętność programowania w dowolnym języku,
wysoka motywacja, umiejętność analitycznego myślenia, praca w zespole
Zgłoszenie powinno zawierać:






życiorys (CV)
list motywacyjny
zaświadczenie o uzyskaniu tytułu magistra
jeden lub więcej listów polecających (wysłanych bezpośrednio na podany poniżej adres)
listę publikacji naukowych, stypendiów i nagród
listę konferencji, w których brał udział Kandydat wraz z tytułami i autorami wystąpień
Warunki zatrudnienia:

stypendium w wysokości 3000 PLN miesięcznie. Umowa maksymalnie na 36 miesięcy.
Zgłoszenia należy przesyłać na adres:
Uniwersytet Warszawski, Centrum Nowych Technologii, ul. Banacha 2c, Pokój 5043, 02-097
Warszawa lub pocztą elektroniczną na adres: [email protected] (proszę wpisać “Hi-Ox
aplikacja doktoranta” w tytule maila).
Termin składania dokumentów upływa z dniem 1 marca 2017 r.
Termin rozstrzygnięcia konkursu nastąpi do dnia 10 marca 2017 r.