Wzrost kryształów objętościowych oraz epitaksja
Transkrypt
Wzrost kryształów objętościowych oraz epitaksja
Wzrost kryształów objętościowych i warstw epitaksjalnych- informacje wstępne Michał Leszczyński Instytut Wysokich Ciśnień PAN UNIPRESS i TopGaN Plan wykładu • Laboratoria wzrostu kryształów w Warszawie • Po co nam kryształy półprzewodników? • Podłoża, np., Si • Epitaksja MBE • Epitaksja MOVPE • Charakteryzacja kryształów Firmy w Warszawie • CEMAT-SILICON- spin-off z Instytutu Technologii Materiałów Elektronicznych, kryształy krzemu • Ammono – absolwenci UW+Nichia, kryształy podłożowe GaN • TopGaN- spin-off z Instytutu Wysokich Ciśnień PAN, kryształy podłożowe GaN, epitaksja (AlGaIn)N, diody laserowe • Vigo- spin-off z Wojskowej Akademii Technicznej, epitaksja HgCdTe, detektory podczerwieni • EpiLab- spin-off z Instytutu Technologii Materiałów Elektronicznych, epitaksja IIIV, SiC, grafen Nagroda dla Ammono za podłoża GaN- CSEurope 2012 Laboratoria w Warszawie • Instytut Technologii Materiałów Elektronicznych –GaN, GaAs, InP, SiC, kryształy tlenkowe, i in., kryształy objętościowe i epitaksja • Instytut Wysokich Ciśnień PAN- GaN, kryształy objętościowe i epitaksja • Instytut Fizyki PAN- kryształy tlenkowe, II-VI, GaN, i in., kryształy objętościowe i epitaksja • Wydział Fizyki UW- epitaksja III-V i GaN • Wydział Fizyki PW- epitaksja III-V • Instytut Technologii Elektronowej – epitaksja III-V W 2012 w Warszawie: • Działa około 100 reaktorów do wzrostu kryształów objętościowych • Około 25 reaktorów epitaksjalnych • Zatrudnionych bezpośrednio przy wzroście kryształów jest ok. 400 osób + 400 przy charakteryzacji • 4 wspomniane firmy przynoszą dochód ok. 30 mln Eur rocznie • • 2020- co najmniej 2 razy więcej Nowe laboratoria w Warszawie • Centrum Zaawansowanych Materiałów, Politechnika, IWC PAN, IF PAN CEZAMAT • Centrum Nowych Technologii UW CENT Kryształy półprzewodników się przydają... Np., GaN Ciało stałe może mieć strukturę: Monokrystaliczną amorficzną polikrystaliczną Materiał monokrystaliczny: • Ma większą ruchliwość nośników elektrycznych • Mniej rozprasza światło w porównaniu z polikryształem • Ma mniej zlokalizowanych stanów w przerwie energetycznej w porównaniu z materiałem amorficznym • Łatwiej uzyskać gładkie interfejsy w strukturach warstwowych Co jest ważne w krysztale podłożowym? • Wielkość • Defekty Punktowe: zanieczyszczenia, wakanse, atomy międzywęzłowe, Rozciągłe: dyslokacje, wydzielenia, aglomeraty, błędy ułożenia, itp.. • Powierzchnia Wzrost podłoża, na przykład, objętościowego kryształu krzemu SiO2+2C→Si +2 CO (1500-2000oC) 98% purity Si+3HCl→SiHCl3 +H2 (BCl3, FeCl3, itp., usunięte przez destylację) SiHCl3 +H2→Si +3HCl Si polikrystaliczny 11N • Metoda Czochralskiego • Polikrystaliczny krzem jest topiony i trzymany trochę poniżej 1417 °C, a z zarodka monokrystalicznego wyrasta kryształ. • Szybkość wyciągania zarodka, rozkład temperatur, szybkość rotacji- do optymalizacji Wzrost kryształu krzemu 10-50 mm/h kwarcowy reaktor źródłem tlenu Obróbka kryształu Figure 4.20 Cięcie na plasterki (wafle-wafers) Trawienie chemiczne dla usunięcia zniszczeń powierzchni i zanieczyszczeń Figure 4.25 Ilość procesorów 1.5 cm x 1.5 cm2 88 die 200-mm wafer 232 die 300-mm wafer Figure 4.13 Polerowanie Wzrost epitaksjalny, na przykład warstw AlGaInN DEFINICJA Epitaksja- nakładanie warstw monokrystalicznych na podłoże monokrystaliczne wymuszające strukturę krystaliczną warstwy. Diody elektroluminescencyjne LED + GaN:Mg 100nm Al0.20GaN:Mg 60nm 4QW QW – InXGa1-XN/QB – InYGa1-YN:Si In0.02GaN:Si 50nm Al0.16GaN:Si 40nm GaN:Si 500nm Diody laserowe HEMT, także sensory gazów i cieczy source gate Schottky diode metal (e.g. aluminum) ohmic ohmic n-AlGaAs tb δ i-AlGaAs i-GaAs Insulating substrate 2DEG drain Detektory światła Ogniwa słoneczne Metody wzrostu warstw epitaksjalnych • Molecular Beam Epitaxy (MBE) • Metalorganic Vapour Phase Epitaxy (MOVPE), czasami zwane MOCVD Zasada działania MBE MBE Appropriate other meanings of MBE Mostly Broken Equipment Massive Beer Expenditures Maniac Bloodsucking Engineers Mega-Buck Evaporator Many Boring Evenings (how do you think this list came about?) Minimal Babe Encounters (see previous item) Mainly B.S. and Exaggeration Medieval Brain Extractor Money Buys Everything Make Believe Experiments Management Bullshits Everyone Malcontents, Boobs, and Engineers Music, Beer, and Excedrin RHEED- kontrola wzrostu warstw MBE RHEED- reflection high energy electron diffraction Gładkość Parametry sieci Rekonstrukcja powierzchni Szybkość wzrostu Mod wzrostu poprzez płynięcie stopni (step-flow) Brak oscylacji RHEED AFM TEM struktury laserowej wzrastanej metodą MBE 10 nm MOVPE-metalorganic chemical vapour phase epitaxy A(CH3)3+NH3->AN+3CH4 A= Ga, In, Al MOVPE Reflektometria laserowa In-situ Przepływ górny (gaz nośny) podłoże Wlot grupy V NH3 SiH4 gaz nośny grzanie indukcyjne Wlot grupy III TMGa TMAl TMIn Cp2Mg Gaz nośny grafitowa podstawa pokryta SiC MOVPE Układ gazowy Reaktor Wielowaflowe (multiwafer) reaktory MOVPE Reflektometria laserowa (monitorowanie wzrostu struktury niebieskiej diody laserowej) Problem niedopasowania sieciowego • Homoepitaksja • Heteroepitaksja • Przypadek warstw naprężonych • Przypadek warstw zrelaksowanych III. Relaksacja sieci Naprężone- fully strained Zrelaksowane- relaxed Wartości krytyczne do relaksacji 10000 critical thickness (nm) dislocations 1000 100 cracking 10 0.0 0.2 0.4 0.6 0.8 1.0 1.2 1.4 1.6 mismatch (%) Wartości niedopasowania i grubości warstw występujących w laserze niebieskim Wartości krytyczne zależą nie tylko od grubości i niedopasowania warstwy epitaksjalnej, ale także od: • Dezorientacji (miscut) podłoża • Domieszkowania • Obecności defektów w podłożu • Warunków wzrostu (temperatura, przepływy reagentów, ciśnienie) • Grubości podłoża Pękanie 1 µm AlGaN, Al=8% On 60 µm GaN On 120 µm GaN substrates Wygięcie struktury laserowej w zależności od grubości podłoża R AlGaN 1000 cladding R(cm) HP GaN Akceptowalne Za małe 100 120 µ m 90 µ m 60 µ m 10 0 5 10 15 Al content (%) 20 Metody charakteryzacji kryształów • Trawienie selektywne (EPD) • Dyfrakcja rentgenowska (XRD) • Mikroskopia sił atomowych (AFM) • Mikroskopia elektronowa • Pomiary własności elektrycznych i optycznych • I wiele innych Trawienie selektywne defektów, EPD Ujawnianie defektów, koncentracji nośników elektrycznych, polarności EPD w strukturze epitaksjalnej niebieskiego lasera 105 cm-2 50 µm Około 5 dyslokacji na pasek, w tym 0-1 przecinających warstwę aktywną 20 µm LD pasek EPD- informacja gdzie się dyslokacja zaczyna Pod warstwą aktywną EPD- informacja gdzie się dyslokacja zaczyna Nad warstwą aktywną Dyfrakcja rentgenowska Krzywa odbić Rocking curve GaAs typu ELOG na Si I (zliczenia/sek.) (4% niedopasowania sieciowego) 10000 1000 100 A B 10 -2000 -1500 -1000 -500 500 1000 1500 2000 ω - ω max (sek.) płaszczyzna dyfrakcji oś obrotu kąta ω 0 A • Krzywa odbić refl. 004 niezrośnięt ych pasków GaAs typu ELOG dla dwóch geometrii pomiaru płaszczyzna dyfrakcji B oś obrotu kąta ω Czasem wielostudnie są bliskie ideału… 1000000 1000000 100000 intensity (cps) 100000 intensity (cps) 10000 10000 experimental 1000 100 1000 experimental simulation 10 34.2 100 34.3 34.4 34.5 34.6 34.7 2 theta (deg) 10 1 simulation 0.1 31 32 33 34 35 Angle 2 theta (deg) (deg) 36 37 Nie ma segregacji indu. d(well)=3.2 nm, d(barrier)=7.1 nm, xaverage= 3.2% 34.8 Czasem nie są… Krzywa odbić dla GaN/InGaN MQW z rozsegregowanym indem 1000000 100000 experiment simulation intensity [a. u.] 10000 1000 100 10 1 0,1 0,01 -20000 -15000 -10000 -5000 0 2theta [rel. Angle (arcsec.] sec) 5000 10000 15000 Topografia Wysokorozdzielcza transmisyjna mikroskopia elektronowa (HRTEM) Wizualizacja poszczególnych defektów, składu chemicznego i naprężeń Mikroskopia skanningowa (SEM) : Warstwa AlGaN z za dużą koncentracją Al i Mg Mikroskopia sił atomowych AFM Uwagi końcowe: * Wspaniałe perspektywy przed wzrostem kryształów w Warszawie * Niezwykle trudne zagadnienie poznawcze- bardzo duża ilość parametrów współzależnych do optymalizacji * Szczęście we wzroście kryształów sprzyja mądrzejszym * Potrzebna wiedza nie tylko z zakresu termodynamiki, chemii, ale i charakteryzacji kryształów i działania przyrządów elektronicznych Motto na dalsze wykłady: Kryształy są jak kobiety. Defekty czynią je pięknymi.
Podobne dokumenty
diament. krzem, german
• Ma większą ruchliwość nośników elektrycznych • Mniej rozprasza światło w porównaniu z
Bardziej szczegółowomechanizmy transportu masy i ciepła
II. Techniki wzrostu epitaksjalnego wzrost z roztworu Vgr ∼ μm/min (17 nm/s)
Bardziej szczegółowoZastosowanie struktur epitaksjalnych półprzewodników na
Meg a-B uck Evaporator Many B oring Evening s (how do you think this lis t came about? ) Minimal B abe Encounters (s ee previous item) Mainly B .S . and Exag g eration Medieval B rain Extractor Mon...
Bardziej szczegółowo