ETD 5064 Halas

OPISY KURSÓW
•
Kod kursu:
ETD 5064
•
Nazwa kursu:
Laboratorium Otwarte II (technologiczne)
•
Język wykładowy:
polski
Forma kursu
Tygodniowa
liczba godzin
ZZU *
Semestralna
liczba godzin
ZZU*
Forma
zaliczenia
Punkty ECTS
Liczba godzin
CNPS
Wykład
Ćwiczenia
Laboratorium
Projekt
Seminarium
3
sprawozdanie
4
100
•
Poziom kursu (podstawowy/zaawansowany):
studia I stopnia stacjonarne,
podstawowy
• Wymagania wstępne: zaliczone kursy ETD 4062 (Technologie mikro- nano-), ETD
4061 (Laboratorium otwarte I)
•
Imię, nazwisko i tytuł/ stopień prowadzącego:
•
Imiona i nazwiska oraz tytuły/stopnie członków zespołu dydaktycznego:
Andrzej Hałas, prof. dr inŜ.
Dziedzic Andrzej, dr hab. inŜ., prof. PWr, Panek Marek, dr inŜ.
Kudzia Józef, dr inŜ., Ohly Tomasz, dr inŜ., Górecka-Drzazga Anna, dr inŜ.,
Prociów Eugeniusz, mgr inŜ., Tańcula Michał, mgr inŜ.
Klubiński Grzegorz, mgr inŜ., Wiśniewski Kamil, mgr inŜ.
•
Rok: .....III...... Semestr:..........5..............
•
Typ kursu (obowiązkowy/wybieralny):
obowiązkowy
• Cele zajęć (efekty kształcenia): Laboratorium otwarte ma charakter warsztatów
technologicznych, w ramach których studenci nabywają umiejętność projektowania i
wykonywania prostych układów hybrydowych w technologiach cienkowarstwowej i
grubowarstwowej. Podczas ćwiczeń zapoznają się z metodami nakładania i wypalania warstw
rezystywnych oraz z obsługą stanowisk próŜniowych do nanoszenia warstw cienkich.
•
Forma nauczania (tradycyjna/zdalna):
tradycyjna
• Krótki opis zawartości całego kursu: Istotną cechą laboratorium otwartego jest łatwy
dostęp studentów do narzędzi, przyrządów i aparatury. Laboratorium jest czynne przez 12
godzin dziennie, cztery dni w tygodniu i 11 miesięcy w roku. Studenci odbywają ćwiczenia w
grupach dwuosobowych, w dogodnych dla siebie terminach. Rejestracja na poszczególne
stanowiska odbywa się poprzez Internet. KaŜda grupa otrzymuje zadanie polegające na
zaprojektowaniu i wykonaniu prostego elektronicznego układu hybrydowego w technologii
cienkowarstwowej i grubowarstwowej, wybranego spośród kilkuset układów,
1
zakwalifikowanych wcześniej przez personel laboratorium. W laboratorium dyŜury pełnią
nauczyciele akademiccy, którzy czuwają nad prawidłowym przebiegiem ćwiczeń oraz
zatrudnieni są pracownicy techniczni, którzy zapewniają serwis urządzeń i aparatury
technologicznej.
•
Wykład (podać z dokładnością do 2 godzin):
Zawartość tematyczna poszczególnych godzin wykładowych
Liczba godzin
1.
2.
3.
•
Ćwiczenia - zawartość tematyczna:
•
Seminarium - zawartość tematyczna:
•
Laboratorium - zawartość tematyczna:
- projekt hybrydowego układu scalonego w obu wersjach technologicznych,
- projekt i wykonanie masek,
- naniesienie ścieŜek rezystywnych i kontaktowych metodą napylania próŜniowego,
- naniesienie ścieŜek rezystywnych i kontaktowych metodą sitodruku,
- montaŜ układów w obu wersjach technologicznych,
- pomiary wykonanych układów.
•
Projekt - zawartość tematyczna:
•
Literatura podstawowa:
- Praca zbiorowa „Procesy technologiczne w elektronice półprzewodnikowej”, WNT,
Warszawa 1980;
- A. Dziedzic, L. Golonka, B. Licznerski, B. Morten, M. Prudenziati, „Technika
grubowarstwowa i jej zastosowania”, Wrocław 1998;
- L. Golonka „Zastosowanie ceramiki LTCC w mikroelektronice”, Oficyna
Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej, 2001;
• Literatura uzupełniająca
J.E. Sergent, C.A. Harper, “Hybrid microelectronics handbook”, McGraw-Hill, Inc.,
NewYork, 1995
• Warunki zaliczenia: wykonanie prawidłowo działających układów i złoŜenie
sprawozdania
* - w zaleŜności od systemu studiów
2
DESCRIPTION OF THE COURSES
•
Course code:
ETD 5064
•
Course title:
Open Laboratory II (technology engineering)
•
Language of the lecturer: Polish
Course form
Number
of hours/week*
Number
of hours/semester*
Form of the course
completion
ECTS credits
Total
Student’s
Workload
Lecture
Classes
Laboratory
Project
Seminar
3
report
4
100
•
Level of the course (basic/advanced): First-cycle studies, mode of study: full-time
studies, basic
•
Prerequisites: Credit for the courses: ETD 4062 (Micro- and nanotechnologies),
ETD 4061 (Open Laboratory I)
•
Name, first name and degree of the lecturer/supervisor: Hałas Andrzej, Professor
•
Names, first names and degrees of the team’s members:
Dziedzic Andrzej, PhD, DSc, Prof.;, Panek Marek, PhD;
Kudzia Józef, PhD; Ohly Tomasz, PhD; Górecka-Drzazga Anna, PhD,
Prociów Eugeniusz, MSC; Tańcula Michał, MSc;
Klubiński Grzegorz, MSc; Wiśniewski Kamil, MSc
•
Year:......III.......... Semester:.........5...........
•
Type of the course (obligatory/optional): obligatory
• Aims of the course (effects of the course): Open Laboratory II performs the functions
of a technology workshop. During practice, the students acquire an experience in designing,
manufacturing and measurements the simple hybrid integrated circuits in thick and thin film
technologies. While training they are practically instructed in the methods of resistive and
conductive films deposition, in the methods of thick films printing and baking as well as in
servicing the vacuum plants and other equipments.
•
Form of the teaching (traditional/e-learning): traditional
• Course description: In the Open Laboratory II, students have an easy access to the
tools, materials, electronic components, measuring instruments, devices and plants. The
laboratory is open 12 hours a day, 4 days a week and 11 months a year. The students train in
two persons groups, at the convenient time, after registration via Internet. The task of the
each group is to design and then to manufacture a simple hybrid integrated circuit in thick
and thin film technologies. The circuits are selected from among a several hundred circuits
approved by laboratory staff. In the laboratory, academic teachers are on duty to take care of
3
the students as well as an operating personnel is engaged to secure an efficiency of plants and
devices.
•
Lecture:
Particular lectures contents
Number of hours
1.
2.
3.
•
Classes – the contents:
•
Seminars – the contents:
•
Laboratory – the contents:
- design for the selected integrated circuit in thin and thick film versions,
- design and manufacturing the masks,
- deposition the resistive and conductive films by cathode sputtering,
- deposition the resistive and conductive films by screen printing,
- assembling the circuits in thin and thick film versions,
- measuring the assembled circuits parameters.
•
Project – the contents:
•
Basic literature:
1. Praca zbiorowa „Procesy technologiczne w elektronice półprzewodnikowej”, WNT,
Warszawa 1980;
2. A. Dziedzic, L. Golonka, B. Licznerski, B. Morten, M. Prudenziati, „Technika
grubowarstwowa i jej zastosowania”, Wrocław 1998;
3. L. Golonka „Zastosowanie ceramiki LTCC w mikroelektronice”, Oficyna
Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej, 2001
•
Additional literature:
1. J.E. Sergent, C.A. Harper, “Hybrid microelectronics handbook”, McGraw-Hill, Inc.,
NewYork, 1995
•
Conditions of the course acceptance/credition: Realization the properly working
circuit and reporting on the results of work.
* - depending on a system of studies
4