Aktualizacja ogłoszenia

OGŁOSZENIE O DIALOGU TECHNICZNYM
I. NAZWA I ADRES PODMIOTU PUBLICZNEGO
Politechnika Warszawska z siedzibą przy Placu Politechniki 1, 00-661 Warszawa, w imieniu i na rzecz
której procedurę przygotowuje i prowadzi pełnomocnik Politechniki Warszawskiej w rozumieniu art. 15
ust. 2 i 3 ustawy z dnia 29 stycznia 2004 r. Prawo zamówień publicznych (tekst jedn. Dz. U. z 2013 r.
poz. 907 ze zm.), zwanej dalej „ustawą” - CEZAMAT PW Sp. z o.o., ul. Polna 50, 00-644 Warszawa.
Zapraszającym do udziału w dialogu technicznym jest CEZAMAT PW Sp. z o.o., ul. Polna 50, 00-644
Warszawa.
II. OPIS PLANOWANEGO PRZEDSIĘWZIĘCIA
Przedsięwzięcie polega na budowie Laboratorium Centralnego w ramach projektu „Centrum
Zaawansowanych Materiałów i Technologii”, współfinansowanego ze środków Unii Europejskiej,
i obejmuje wykonanie robót budowlanych oraz wykonanie dostaw urządzeń aparatury naukowo –
badawczej.
Zamiarem projektodawców jest stworzenie innowacyjnego centrum badawczego inspirującego
do prowadzania badań nad zaawansowanymi materiałami i technologiami, które przyniosą przełom
w polskiej nauce, zapewniając konkurencyjność Polski i Europy w obszarze wysokich technologii
na arenie międzynarodowej. Centrum wyposażone będzie w zaawansowane linie technologiczne oraz
platformy projektowania, symulacji, diagnostyki i charakteryzacji. Dzięki stworzonej infrastrukturze
badawczej oraz programom zintegrowanych badań możliwe będzie wspólne prowadzenie badań
naukowych i prac rozwojowych na najwyższym światowym poziomie oraz upowszechnienie
i wdrażanie nowoczesnych technologii.
III. DIALOG TECHNICZNY
III.1. Podstawa prawna
Art. 31a-c ustawy.
III.2. Cel Dialogu
1) Celem prowadzonego dialogu technicznego jest pozyskanie przez Politechnikę Warszawską
informacji, które mogą być wykorzystane przy przygotowaniu opisu przedmiotu zamówienia
z zachowaniem zasady uczciwej konkurencji odnośnie możliwości prawnych, technicznych
i ekonomicznych zakupu urządzeń aparatury naukowo – badawczej w ramach projektu Centrum
Zaawansowanych Materiałów i Technologii - CEZAMAT.
2) Zastrzega się̨, że przedmiotem dialogu technicznego mogą być tylko wybrane z ww. aspektów
przedsięwzięcia jak również inne aspekty istotne zarówno dla prawidłowego, konkurencyjnego
i przejrzystego postępowania na wybór wykonawcy oraz późniejszego zrealizowania założonego
przedsięwzięcia.
III.3. Przedmiot Dialogu
Dialog techniczny podzielony będzie na odrębne Grupy i dotyczyć będzie możliwości prawnych,
technicznych i ekonomicznych zakupu poniższych urządzeń aparatury naukowo – badawczej:
Grupa I – Urządzenie do centrowania i naświetlania wiązką elektronową (elektronolitograf);
Grupa II – Analityczny, transmisyjny mikroskop elektronowy z emisją polową STEM/TEM
o rozdzielczości atomowej;
Grupa III – Wysokorozdzielczy skaningowy mikroskop elektronowy z emisją polową HR-FE-SEM;
Grupa IV – Urządzenie do trawienia zogniskowaną wiązką jonów FIB z podglądem SEM;
CEZAMAT PW Sp. z o.o.
ul. Polna 50
00-644 Warszawa
tel.: (22) 234 71 57; www.cezama.eu
NIP 7010346175 REGON 146180411
Kapitał zakładowy 100 000 zł
Wpisana do rejestru przedsiębiorców prowadzonego przez Sąd Rejonowy dla m.st. Warszawy,
XII Wydział Gospodarczy Krajowego Rejestru Sądowego pod numerem KRS 0000424841
Grupa V – Wysokorozdzielczy skaningowy mikroskop elektronowy z emisją polową HR-FE-SEM;
Grupa VI – Zestaw urządzeń do fotolitografii;
Grupa VII – Reaktory do procesów wysokotemperaturowych oraz reaktory LPCVD;
Grupa VIII – Implantator jonów;
Grupa IX – Urządzenia do procesów trawienia w plazmie chlorowej/fluorowej w wersjach
RIE/ICP/DRIE;
Grupa X – Urządzenia do procesów osadzania ze wspomaganiem plazmy w wersji PECVD;
Grupa XI – Reaktor ALD (Osadzania Warstw Atomowych);
Grupa XII – Urządzenia do osadzania metodą magnetronową;
Grupa XIII – Urządzenia do naparowywania próżniowego;
Grupa XIV – Urządzenia do trawienia mokrymi metodami chemicznymi warstw metodami
zanurzeniową, natryskową i/lub rozpylania;
Grupa XV – Urządzenia
półprzewodnikowych;
do
charakterystyki
elektrycznej
elementów
i
struktur
III.4. Warunki udziału w dialogu technicznym:
1) Warunkiem dopuszczenia do udziału w Dialogu jest:
a) złożenie dokumentów określonych w pkt III.4.3)
b) spełnienie warunku wiedzy i doświadczenia opisanego w pkt III.4.2) odpowiednio dla każdej
z Grup przedmiotu Dialogu, o dopuszczenie do których stara się Uczestnik.
2) Podmioty zainteresowane przystąpieniem do Dialogu muszą dysponować wiedzą
i doświadczeniem w zakresie realizacji zamówień polegających na dostawie, instalacji,
uruchomieniu urządzeń aparatury naukowo – badawczej wraz ze szkoleniem dla pracowników
podmiotu zamawiającego, tj.:
dla Grupy I - Urządzenie do centrowania i naświetlania wiązką elektronową (elektronolitograf)
– wykonanie w okresie ostatnich 3 lat przed datą składania wniosku co najmniej 1 (jednej)
dostawy, obejmującej również instalację, uruchomienie oraz szkolenie dla pracowników
odbiorcy, urządzenia do centrowania i naświetlania wiązką elektronową posiadającego
poniższe parametry:
a.
Maksymalne napięcie przyspieszające: co najmniej 80 kV,
b.
Maksymalna średnica montowanego podłoża/próbki: co najmniej 200 mm,
c.
Możliwość uzyskania w PMMA linii o szerokości ≤ 10 nm, o długości
co najmniej 2 mikrometry.
dla Grupy II - Analityczny, transmisyjny mikroskop elektronowy z emisją polową STEM/TEM
o rozdzielczości atomowej
– wykonanie w okresie ostatnich 3 lat przed datą składania wniosku co najmniej 2 (dwóch)
dostaw, obejmujących również instalację, uruchomienie oraz szkolenie dla pracowników
odbiorcy, analitycznego transmisyjnego mikroskopu elektronowego z emisją polową
STEM/TEM o rozdzielczości atomowej posiadającego poniższe parametry:
a.
Test rozdzielczości punktowej w trybie mikroskopii Lorentza na błonce
węglowej napylonej złotem lepsza niż 5 nm dla 200 kV.
CEZAMAT PW Sp. z o.o.
ul. Polna 50
00-644 Warszawa
tel.: (22) 234 71 57; www.cezama.eu
NIP 7010346175 REGON 146180411
Kapitał zakładowy 100 000 zł
Wpisana do rejestru przedsiębiorców prowadzonego przez Sąd Rejonowy dla m.st. Warszawy,
XII Wydział Gospodarczy Krajowego Rejestru Sądowego pod numerem KRS 0000424841
dla Grupy III - Wysokorozdzielczy skaningowy mikroskop elektronowy z emisją polową HR-FESEM
- wykonanie w okresie ostatnich 3 lat przed datą składania wniosku co najmniej 2 (dwóch)
dostaw, obejmujących również instalację, uruchomienie oraz szkolenie dla pracowników
odbiorcy, wysokorozdzielczego skaningowego mikroskopu elektronowego z emisją polową
HR-FE-SEM posiadającego poniższe parametry:
a.
Maksymalne napięcie przyśpieszające przy powierzchni próbki co najmniej 25
kV,
b.
Zdolność rozdzielcza mikroskopu dla obrazów nie może być gorsza niż 3 nm.
dla Grupy IV – Urządzenie do trawienia zogniskowaną wiązką jonów FIB z podglądem SEM
- wykonanie w okresie ostatnich 3 lat przed datą składania wniosku co najmniej 2 (dwóch)
dostaw, obejmujących również instalację, uruchomienie oraz szkolenie dla pracowników
odbiorcy, urządzenia do trawienia zogniskowaną wiązką jonów FIB z podglądem SEM
posiadającego poniższe parametry:
a.
Maksymalne napięcie przyspieszające działa elektronowego - co najmniej 25
kV,
b.
Zdolność rozdzielcza mikroskopu SEM dla obrazów SE nie może być gorsza
niż 5 nm.
dla Grupy V – Wysokorozdzielczy skaningowy mikroskop elektronowy z emisją polową HR-FESEM
- wykonanie w okresie ostatnich 3 lat przed datą składania wniosku co najmniej 2 (dwóch)
dostaw, obejmujących również instalację, uruchomienie oraz szkolenie dla pracowników
odbiorcy, wysokorozdzielczego skaningowego mikroskop elektronowy z emisją polową HRFE-SEM posiadającego poniższe parametry:
a.
Średnica obserwowanego podłoża/próbki: co najmniej 200 mm,
b.
Zdolność rozdzielcza mikroskopu dla obrazów nie może być gorsza niż 2 nm.
dla Grupy VI – Zestaw urządzeń do fotolitografii
- wykonanie w okresie ostatnich 3 lat przed datą składania wniosku co najmniej 2 (dwóch)
dostaw, obejmujących również instalację, uruchomienie oraz szkolenie dla pracowników
odbiorcy, zestawu urządzeń do fotolitografii posiadającego poniższe parametry:
a.
Maksymalna średnica podłoża/próbki: co najmniej 200 mm,
b.
Zestaw musi umożliwiać realizację pełnej sekwencji operacji procesu
fotolitografii od przygotowania podłoża do nakładania emulsji, aż po jej
usunięcie po zakończeniu procesu definiowania kształtów, tj,: umożliwiać
procesy: czyszczenia podłoży, nakładania emulsji, wszystkie etapy obróbki
termicznej emulsji, naświetlanie i centrowanie podłoży, wywoływanie
i usuwanie emulsji.
dla Grupy VII – Reaktory do procesów wysokotemperaturowych oraz reaktory LPCVD
- wykonanie w okresie ostatnich 3 lat przed datą składania wniosku co najmniej 2 (dwóch)
dostaw, obejmujących również instalację, uruchomienie oraz szkolenie dla pracowników
odbiorcy, reaktorów do procesów wysokotemperaturowych oraz reaktorów LPCVD
posiadających poniższe parametry:
a.
Maksymalna średnica podłoża/próbki: co najmniej 200 mm,
b.
Maksymalna temperatura procesu – co najmniej 1100°C,
c.
Dokładność temperatury w strefie nie gorsza niż ±0,2°C dla zakresu
temperatur 400°C – 1100°C.
CEZAMAT PW Sp. z o.o.
ul. Polna 50
00-644 Warszawa
tel.: (22) 234 71 57; www.cezama.eu
NIP 7010346175 REGON 146180411
Kapitał zakładowy 100 000 zł
Wpisana do rejestru przedsiębiorców prowadzonego przez Sąd Rejonowy dla m.st. Warszawy,
XII Wydział Gospodarczy Krajowego Rejestru Sądowego pod numerem KRS 0000424841
dla Grupy VIII – Implantator jonów
- wykonanie w okresie ostatnich 6 lat przed datą składania wniosku co najmniej 1 (jednej)
dostawy, obejmującej również instalację, uruchomienie oraz szkolenie dla pracowników
odbiorcy, implantatora jonów posiadającego poniższe parametry:
a.
Maksymalne napięcie przyspieszające - co najmniej 200kV,
b.
Maksymalna średnica podłoża (implantowana) – co najmniej 150 mm.
dla Grupy IX – Urządzenia do procesów trawienia w plazmie chlorowej/fluorowej w wersjach
RIE/ICP/DRIE
- wykonanie w okresie ostatnich 3 lat przed datą składania wniosku co najmniej 2 (dwóch)
dostaw, obejmujących również instalację, uruchomienie oraz szkolenie dla pracowników
odbiorcy, urządzenia do procesów trawienia w plazmie chlorowej/fluorowej w wersjach
RIE/ICP/DRIE posiadających poniższe parametry:
a.
Maksymalna średnica podłoża (poddawana procesowi): co najmniej 200 mm.
dla Grupy X – Urządzenia do procesów osadzania ze wspomaganiem plazmy w wersji PECVD
- wykonanie w okresie ostatnich 3 lat przed datą składania wniosku co najmniej 2 (dwóch)
dostaw, obejmujących również instalację, uruchomienie oraz szkolenie dla pracowników
odbiorcy, urządzeń do procesów osadzania ze wspomaganiem plazmy w wersji PECVD
posiadających poniższe parametry:
a.
Maksymalna średnica podłoża (poddawana procesowi): co najmniej 200 mm.
dla Grupy XI – Reaktor ALD (Osadzania Warstw Atomowych)
- wykonanie w okresie ostatnich 3 lat przed datą składania wniosku co najmniej 2 (dwóch)
dostaw, obejmujących również instalację, uruchomienie oraz szkolenie dla pracowników
odbiorcy, reaktora ALD posiadającego poniższe parametry:
a.
Maksymalna średnica podłoża (poddawana procesowi): co najmniej 200 mm.
dla Grupy XII – Urządzenia do osadzania metodą magnetronową
- wykonanie w okresie ostatnich 3 lat przed datą składania wniosku co najmniej 2 (dwóch)
dostaw, obejmujących również instalację, uruchomienie oraz szkolenie dla pracowników
odbiorcy, urządzeń do osadzania metodą magnetronową posiadających poniższe parametry:
a.
Maksymalna średnica podłoża (poddawana procesowi): co najmniej 200 mm.
dla Grupy XIII – Urządzenia do naparowywania próżniowego
- wykonanie w okresie ostatnich 3 lat przed datą składania wniosku co najmniej 2 (dwóch)
dostaw, obejmujących również instalację, uruchomienie oraz szkolenie dla pracowników
odbiorcy, urządzeń do naparowywania próżniowego posiadających poniższe parametry:
a.
Maksymalna średnica podłoża (poddawana procesowi): co najmniej 200 mm.
dla Grupy XIV – Urządzenia do trawienia mokrymi metodami chemicznymi warstw metodami
zanurzeniową, natryskową i/lub rozpylania
- wykonanie w okresie ostatnich 3 lat przed datą składania wniosku co najmniej 2 (dwóch)
dostaw, obejmujących również instalację, uruchomienie oraz szkolenie dla pracowników
odbiorcy, urządzeń do trawienia mokrymi metodami chemicznymi warstw metodami
zanurzeniową, natryskową i/lub rozpylania posiadających poniższe parametry:
a.
Maksymalna średnica podłoża (poddawana procesowi): co najmniej 200 mm.
dla Grupy XV – Urządzenia do charakterystyki elektrycznej elementów i struktur
półprzewodnikowych
- wykonanie w okresie ostatnich 3 lat przed datą składania wniosku co najmniej 2 (dwóch)
dostaw, obejmujących również instalację, uruchomienie oraz szkolenie dla pracowników
odbiorcy, urządzeń do charakterystyki elektrycznej elementów i struktur półprzewodnikowych
posiadających poniższe parametry:
a.
Ekranowana komora na płytki poddawane procesowi o średnicy co najmniej
CEZAMAT PW Sp. z o.o.
ul. Polna 50
00-644 Warszawa
tel.: (22) 234 71 57; www.cezama.eu
NIP 7010346175 REGON 146180411
Kapitał zakładowy 100 000 zł
Wpisana do rejestru przedsiębiorców prowadzonego przez Sąd Rejonowy dla m.st. Warszawy,
XII Wydział Gospodarczy Krajowego Rejestru Sądowego pod numerem KRS 0000424841
b.
200 mm,
Możliwość regulacji temperatury płytki w zakresie co najmniej od -50
do +200°C.
3) Podmioty, które przystępują̨ do dialogu technicznego, zobowiązane są̨ do przedłożenia:
a) wniosku o dopuszczenie do udziału w Dialogu wraz z załącznikami wg wzoru
stanowiącego załącznik nr 2 do niniejszego ogłoszenia. Wniosek winien zostać
sporządzony w formie pisemnej, w języku polskim i zawierać treści określone we wzorze;
b) wykazu zrealizowanych dostaw i usług, o których mowa w pkt III.4.2) – odpowiednio dla
danej Grupy, zawierającego opis dostaw i usług, datę wykonania i podmiot dla którego
wykonano dostawy i usługi;
c) aktualnego odpisu z Krajowego Rejestru Sądowego, ewidencji działalności gospodarczej
lub w przypadku podmiotów zagranicznych, odpisu z innego rejestru handlowego;
d) w przypadku, w którym w imieniu podmiotu działa przedstawiciel, którego upoważnienie
do reprezentacji nie wynika bezpośrednio z przedstawionego rejestru, przedstawiciel jest
zobowiązany do przedłożenia, przed przystąpieniem do dialogu, stosownego oryginału
pełnomocnictwa. Podpisy mocodawcy muszą zostać złożone przez osoby uprawnione
do składania oświadczeń woli wymienione we właściwym rejestrze lub wpisie do ewidencji
działalności gospodarczej. Dokument pełnomocnictwa należy przedstawić w formie
oryginału lub kopii potwierdzonej za zgodność przez notariusza. Wszelka korespondencja
będzie prowadzona wyłącznie z podmiotem występującym jako pełnomocnik.
4) Dokumenty sporządzone w języku obcym należy przedłożyć wraz ich tłumaczeniem na język
polski.
5) Dany podmiot może złożyć wniosek o dopuszczenie do udziału w Dialogu odpowiednio dla
jednej lub większej liczby Grup określonych w pkt. III.3. niniejszego ogłoszenia.
6) W przypadku gdy liczba podmiotów dopuszczonych do udziału w Dialogu odpowiednio dla
danej Grupy będzie większa niż 7, Zapraszający zastrzega sobie prawo weryfikacji posiadanego
doświadczenia i dokonania klasyfikacji podmiotów zgłaszających akces w oparciu o dane zawarte
w wykazie zrealizowanych dostaw i usług. Do udziału w Dialogu zakwalifikowanych zostanie
nie więcej niż 7 uczestników, którzy wykażą wykonanie największej liczby dostaw i usług
odpowiadającym warunkowi opisanemu w pkt III.4.2) niniejszego ogłoszenia odpowiednio dla
danej Grupy.
III.5. Wskazanie miejsca i terminu składania wniosków o dopuszczenie do dialogu
technicznego
1) Miejsce złożenia wniosków: siedziba CEZAMAT PW Sp. z o.o. – Warszawa, 00-644, ul. Polna
50, pokój nr 503, 5. piętro.
2) Termin złożenia wniosków: 4 kwietnia 2014 r. godz. 15.30.
3) W przypadku składania wniosków drogą pocztową lub przesyłką kurierską za termin jego
złożenia przyjęty będzie dzień i godzina otrzymania wniosku przez kancelarię wskazaną w pkt.
III.5.1) niniejszego ogłoszenia.
4) Koperta winna być zaadresowana:
CEZAMAT PW Sp. z o.o., ul. Polna 50, 00-644 Warszawa
Koperta powinna być opisana wg poniższego wzoru:
„Wniosek o dopuszczenie do dialogu technicznego w przedmiocie zakupu urządzeń aparatury
naukowo – badawczej w ramach projektu Centrum Zaawansowanych Materiałów i Technologii –
CEZAMAT – Grupa …...”
CEZAMAT PW Sp. z o.o.
ul. Polna 50
00-644 Warszawa
tel.: (22) 234 71 57; www.cezama.eu
NIP 7010346175 REGON 146180411
Kapitał zakładowy 100 000 zł
Wpisana do rejestru przedsiębiorców prowadzonego przez Sąd Rejonowy dla m.st. Warszawy,
XII Wydział Gospodarczy Krajowego Rejestru Sądowego pod numerem KRS 0000424841
III.6. Osoby do kontaktów
Marika Czarnecka – tel. 22 234 7157, e-mail: [email protected]
Marcin Cylejewski – tel. 506 275 068, e-mail: [email protected]
IV. PROCEDURA DIALOGU
IV.1. Termin i miejsce prowadzenia dialogu
1) Zapraszający rozpatrzy wnioski o dopuszczenie do udziału w Dialogu w terminie do dnia
10 kwietnia 2014 r.
2) Podmioty zgłaszające akces zostaną poinformowane pisemnie o zaproszeniu do udziału
w Dialogu.
3) Dialog prowadzony będzie z zakwalifikowanymi Uczestnikami począwszy od dnia 14 kwietnia
2014 r.
4) Miejscem prowadzenia dialogu będzie siedziba CEZAMAT PW Sp. z o.o. – Warszawa,
ul. Polna 50, bądź siedziba filii CEZAMAT PW Sp. z o.o. – Warszawa ul. Koszykowa 75,
gmach Instytutu Mikroelektroniki i Optoelektroniki (IMiO).
5) Zapraszający planuje zakończenie Dialogu do dnia 30 czerwca 2014 r. Zapraszający
zastrzega sobie możliwość przedłużenia okresu prowadzenia Dialogu, o ile nie ustalone
zostaną wszystkie istotne dla Zapraszającego dane odnośnie możliwości prawnych,
technicznych i ekonomicznych zakupu urządzeń aparatury naukowo – badawczej w ramach
projektu Centrum Zaawansowanych Materiałów i Technologii - CEZAMAT.
IV.2. Tryb prowadzenia dialogu
1) Dialog będzie prowadzony w formie spotkań indywidualnych z Uczestnikami.
2) O terminach indywidualnych spotkań Uczestnicy zawiadamiani będą na piśmie z co najmniej
3 dniowym wyprzedzeniem.
3) Dialog prowadzony będzie w języku polskim i / lub języku angielskim. Protokoły z Dialogu
prowadzone będą w języku polskim.
4) Wszelkie dokumenty związane z prowadzonym Dialogiem, przekazywane
Zapraszającego i Uczestników dialogu, winny zostać sporządzone w języku polskim.
przez
IV.3. Zasady ogólne prowadzenia postępowania
Zasady określa regulamin dialogu technicznego – stanowiący załącznik nr 1 do niniejszego
ogłoszenia.
V. UWAGI KOŃCOWE
Niniejsze ogłoszenie nie stanowi zaproszenia do złożenia oferty w rozumieniu art. 66 Kodeksu
cywilnego, ani nie jest ogłoszeniem o zamówienia w rozumieniu przepisów ustawy z dnia 29 stycznia
2004 r. Prawo zamówień publicznych.
Niniejsze ogłoszenie nie jest również ogłoszeniem postępowania na wybór partnera prywatnego
w rozumieniu ustawy z dnia 19 grudnia 2008 r. o partnerstwie publiczno-prywatnym, ani o zawarcie
umowy koncesji w rozumieniu ustawy z dnia 9 stycznia 2009 r. o koncesji na roboty budowlane lub
usługi.
Udział w dialogu technicznym nie jest warunkiem ubiegania się̨ w przyszłości o jakiekolwiek
zamówienie publiczne, o zawarcie umowy o partnerstwo publiczno-prywatne lub zawarcie umowy
CEZAMAT PW Sp. z o.o.
ul. Polna 50
00-644 Warszawa
tel.: (22) 234 71 57; www.cezama.eu
NIP 7010346175 REGON 146180411
Kapitał zakładowy 100 000 zł
Wpisana do rejestru przedsiębiorców prowadzonego przez Sąd Rejonowy dla m.st. Warszawy,
XII Wydział Gospodarczy Krajowego Rejestru Sądowego pod numerem KRS 0000424841
koncesji na roboty budowlane lub usługi, do ogłoszenia którego mogą̨ zostać wykorzystane informacje
pozyskane w niniejszym postępowania.
Załączniki
- Regulamin dialogu technicznego
- Wzór wniosku o przystąpienie do dialogu technicznego wraz z załącznikami
Jacek Kossut
/-/
Wiceprezes Zarządu ds.
Organizacji i Współpracy Zewnętrznej
CEZAMAT PW Sp. z o.o.
CEZAMAT PW Sp. z o.o.
ul. Polna 50
00-644 Warszawa
tel.: (22) 234 71 57; www.cezama.eu
NIP 7010346175 REGON 146180411
Kapitał zakładowy 100 000 zł
Wpisana do rejestru przedsiębiorców prowadzonego przez Sąd Rejonowy dla m.st. Warszawy,
XII Wydział Gospodarczy Krajowego Rejestru Sądowego pod numerem KRS 0000424841
Mariusz Wielec
/-/
Prezes Zarządu
CEZAMAT PW Sp. z o.o.