ETD 5071 • Nazwa kursu

OPISY KURSÓW

Kod kursu:
ETD 5071

Nazwa kursu:
Laboratorium mikroelektroniki (technologie mikro- nano-)

Język wykładowy:
polski
Forma kursu
Tygodniowa
liczba godzin
ZZU *
Semestralna
liczba godzin
ZZU*
Forma
zaliczenia
Punkty ECTS
Liczba godzin
CNPS
Wykład
Ćwiczenia
Laboratorium
Projekt
Seminarium
-
4
-
-
-
60
-
-
-
ocena
-
-
4
120

Poziom kursu
zaawansowany

Wymagania wstępne: Technologie mikro- nano-

Imię, nazwisko i tytuł/ stopień prowadzącego: Andrzej Dziedzic, dr hab. inż., prof.
PWr
(podstawowy/zaawansowany):
studia
I
stopnia
stacjonarne,
 Imiona i nazwiska oraz tytuły/stopnie członków zespołu dydaktycznego: Regina
Paszkiewicz, dr hab. inż., prof. PWr; Iwona Zborowska-Lindert, dr inż., Beata Ściana, dr inż.;
Eugeniusz Prociów, mgr inż.

Rok: .....III....... Semestr:.....5.......

Typ kursu (obowiązkowy/wybieralny): obowiązkowy
 Cele zajęć (efekty kształcenia): znajomość podstawowych procesów technologicznych
związanych z wytwarzaniem przyrządów mikro- i nanoelektronicznych


Forma nauczania (tradycyjna/zdalna): tradycyjna
Krótki opis zawartości całego kursu: Kurs prezentuje podstawowe procesy
technologiczne w mikroelektronice półprzewodnikowej, cienkowarstwowej i
grubowarstwowej. Wykonywane są cienkowarstwowe i grubowarstwowe elementy
dyskretne i charakteryzowane są ich podstawowe właściwości elektryczne. Ponadto są
badane podstawowe procesy technologiczne charakterystyczne dla technologii
półprzewodnikowej (np. utlenianie termiczne, dyfuzja i metalizacja)
 Wykład (podać z dokładnością do 2 godzin):
Zawartość tematyczna poszczególnych godzin wykładowych

Ćwiczenia - zawartość tematyczna: -

Seminarium - zawartość tematyczna: -
Liczba godzin
1

Laboratorium - zawartość tematyczna:
1. Wprowadzenie do laboratorium (program, wymagania).
2. Utlenianie termiczne krzemu.
3. Dyfuzja domieszek do krzemu.
4. Fotolitografia.
5. Metalizacja w technologii półprzewodnikowej.
6. Technologia warstw epitaksjalnych.
7. Naparowywanie próżniowe.
8. Rozpylanie katodowe trójelektrodowe.
9. Rozpylanie magnetronowe.
10. Sprzęt technologiczny w technice grubowarstwowej.
11. Technologia i właściwości rezystorów cermetowych.
12. Technologia i właściwości rezystorów polimerowych.
13. Projekt prostego układu grubowarstwowego.
14. Technologia i właściwości elementów LTCC.

Projekt - zawartość tematyczna: -
 Literatura podstawowa:
1. Praca zbiorowa, Procesy technologiczne w elektronice półprzewodnikowej, WNT,
Warszawa 1980
2. R.B. Beck, Technologia krzemowa, PWN, Warszawa 1991
3. R.W. Berry, P.M. Hall, M.T. Harris, Thin film technology, Van Nostrand Corp., New York
1985
4. J.E. Sergent, C.A. Harper, Hybrid microelectronics handbook, Mc Graw-Hill Inc., New
York 1995
5. A. Dziedzic, L. Golonka, B. Licznerski, B. Morten, M. Prudenziati, Technika
grubowarstwowa i jej zastosowania, Monada, Wrocław 1998

Literatura uzupełniająca:

Warunki zaliczenia: zaliczenie wszystkich ćwiczeń
* - w zależności od systemu studiów
2